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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利用于光学表面缺陷材料特性化的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114096834B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080048970.2，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权用于光学表面缺陷材料特性化的方法及系统是由许志伟;K·哈勒尔;J-K·龙;C·渥特斯设计研发完成，并于2020-07-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于光学表面缺陷材料特性化的方法及系统在说明书摘要公布了：本文中描述用于基于来自样本的暗场散射相位而检测缺陷并对所述缺陷进行分类的方法及系统。在一些实施例中，通过用同一光学系统检测缺陷并对所述缺陷进行分类来增加吞吐量。在一个方面中，基于从集光光瞳中至少两个空间上相异的位置收集的经散射光的所测量相对相位而对缺陷进行分类。如果通过光瞳平面处任何两个空间上相异的位置透射的光之间存在相位差，那么依据干涉条纹在成像平面中的位置来确定所述相位差。所述所测量相位差指示所测量样本的材料组成。在另一方面中，一种检验系统包含经配置以在集光光瞳中不同可编程位置处对光瞳进行取样的可编程光瞳孔口装置。

本发明授权用于光学表面缺陷材料特性化的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于表面检验的系统，其包括： 照明源，其经配置以产生引导到安置在样品上的所关注缺陷的第一量的照明光和第二量的照明光； 集光物镜，其经配置以响应于所述第一量的照明光而从所述所关注缺陷收集第一量的所收集光且响应于所述第二量的照明光而从所述所关注缺陷收集第二量的所收集光，所述第一量的所收集光和所述第二量的所收集光包含所述集光物镜的集光光瞳内的暗场散射光； 一或多个掩模元件，其安置在第一配置中或安置在第二配置中，所述第一配置中的所述一或多个掩模元件阻挡所述第一量的所收集光的第一部分且透射所述第一量的所收集光的第二部分，所述第一量的所收集光的所述第二部分是从所述集光光瞳中的至少两个空间上相异的区域选择的，所述第二配置中的所述一或多个掩模元件阻挡所述第二量的所收集光的第一部分且透射所述第二量的所收集光的第二部分，所述第二量的所收集光的所述第二部分是从所述集光光瞳中的至少两个空间上相异的区域选择的，其中所述第二配置中的所述至少两个空间上相异的区域中的至少一个不同于所述第一配置中的所述至少两个空间上相异的区域中的至少一个； 成像检测器，其具有位于与所述样品的表面共轭的场平面处或附近的光敏表面，所述成像检测器经配置以在所述场平面处或附近检测由所述第一量的所收集光的所透射部分形成的第一干涉图案且在所述场平面处或附近检测由所述第二量的所收集光的所透射部分形成的第二干涉图案；及 一或多个处理器，其经配置以进行以下操作： 接收指示所述第一干涉图案和所述第二干涉图案的输出信号； 基于所述第一干涉图案获得来自所述第一配置中的所述至少两个空间上相异的区域中的第一区域的经透射光与来自所述第一配置中的所述至少两个空间上相异的区域中的第二区域的经透射光之间的第一相位差且基于所述第二干涉图案获得来自所述第二配置中的所述至少两个空间上相异的区域中的第一区域的经透射光与来自所述第二配置中的所述至少两个空间上相异的区域中的第二区域的经透射光之间的第二相位差；及 基于所述第一相位差和所述第二相位差对所述所关注缺陷进行分类。

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