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龙图腾网获悉中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所申请的专利一种小型化吸透一体频率选择结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114094344B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111308413.2，技术领域涉及：H01Q17/00；该发明授权一种小型化吸透一体频率选择结构是由许秉正;贾胜利;姜晓宇设计研发完成，并于2021-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种小型化吸透一体频率选择结构在说明书摘要公布了：本发明属于微波技术领域，具体而言，特别涉及一种小型化吸透一体频率选择结构，包括损耗结构、无耗结构与泡沫结构，损耗结构包括正方形的第一介质板，其正面具有由一根金属线螺旋而成的双螺旋金属线，所述双螺旋金属线的两端连接埋阻结构，所述埋阻结构设置在所述第一介质板的背面；无耗结构为正方形，包括第一金属层，第二金属层，第三金属层，所述第一金属层与所述第二金属层之间、所述第二金属层与所述第三金属层之间具有介质板；所述第一金属层与所述第三金属层均由沿周向同周期分布的金属贴片组成；所述第二金属层为一层矩形金属边框；泡沫结构，其连接并隔开无耗结构与损耗结构，本申请以极小的单元尺寸，保证了高频的布拉格瓣的抑制。

本发明授权一种小型化吸透一体频率选择结构在权利要求书中公布了：1.一种小型化吸透一体频率选择结构，其特征在于，其包含N×N个结构单元，每个结构单元包括透波频段和吸波频段，吸波频段包括损耗结构1，透波频段包括无耗结构3： 损耗结构1，损耗结构1包括正方形的第一介质板，其包括正面与背面，所述正面具有由一根金属线螺旋而成的双螺旋金属线，所述双螺旋金属线的两端连接埋阻结构，所述埋阻结构设置在所述第一介质板的背面； 无耗结构3，无耗结构3为正方形，包括第一金属层，第二金属层，第三金属层，所述第一金属层与所述第二金属层之间具有第二介质板，所述第二金属层与所述第三金属层之间具有第三介质板；所述第一金属层与所述第三金属层均由沿周向同周期分布的金属贴片组成；所述第二金属层为一层矩形金属边框； 泡沫结构2，其连接并隔开无耗结构3与损耗结构1； 所述双螺旋金属线的数量为四个，沿损耗结构1中心呈中心对称分布； 所述金属贴片形状为正方形，所述第一金属层与所述第三金属层的所述金属贴片的数量分别为4个。

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