意法半导体股份有限公司D·G·帕蒂获国家专利权
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龙图腾网获悉意法半导体股份有限公司申请的专利具有选择性禁用单元的集成MOS晶体管获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114093944B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-27发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110880035.9,技术领域涉及:H10D30/66;该发明授权具有选择性禁用单元的集成MOS晶体管是由D·G·帕蒂设计研发完成,并于2021-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有选择性禁用单元的集成MOS晶体管在说明书摘要公布了:本公开的实施例涉及具有选择性禁用单元的集成MOS晶体管。一种集成器件包括具有多个单元的至少一个MOS晶体管。在一个或多个单元中的每个单元中提供了禁用结构。禁用结构被配置为:当MOS晶体管响应于被包括在MOS晶体管的阈值电压与禁用结构的干预电压之间的控制电压而被接通时处于非传导状况,或者在其它情况下处于传导状况。还提出了包括至少一个上述集成器件的系统。此外,还提出了用于制造该集成器件的对应的工艺。
本发明授权具有选择性禁用单元的集成MOS晶体管在权利要求书中公布了:1.一种半导体集成器件,包括: 至少一个MOS晶体管,被集成在半导体材料的管芯上,所述MOS晶体管包括: 多个单元,所述多个单元中的每个单元包括: 源极区域; 导电材料的栅极元件;以及 电绝缘材料的栅极绝缘层,将所述栅极元件与所述管芯的所述半导体材料绝缘; 源极接触件,与所述源极区域耦合;以及 栅极接触件,与所述栅极元件耦合; 其中所述多个单元中的一个或多个选择的单元包括: 禁用结构,被插置在所述栅极元件的耦合的栅极部分与所述栅极元件的解耦的栅极部分之间,所述栅极元件的耦合的栅极部分与所述栅极接触件耦合,所述栅极元件的解耦的栅极部分与所述栅极接触件解耦,所述禁用结构具有高于所述MOS晶体管的阈值电压的干预电压, 其中所述禁用结构被配置为: 当所述MOS晶体管响应于被施加在所述栅极接触件与所述源极接触件之间的控制电压而被接通时,所述禁用结构处于非传导状况,所述控制电压在所述阈值电压与所述干预电压之间;或者 在其它情况下,所述禁用结构处于传导状况。
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