深圳大学杨高获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳大学申请的专利一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121325507B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511883730.5,技术领域涉及:G03F7/00;该发明授权一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件是由杨高;龚峰;李贵君;张猛;周宇;罗星海设计研发完成,并于2025-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件在说明书摘要公布了:本发明属于微纳成形技术领域,尤其涉及一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件。双面压印成形方法包括如下步骤:制模,准备图案化基底,图案化基底具有图案面,于图案面加工对准结构,并根据对准结构于图案面加工微纳结构;切边,根据对准结构,沿第一方向切除图案化基底的一边缘且形成第一定位面;沿第二方向切除图案化基底的另一边缘并形成第二定位面,以使图案化基底加工为成形模板;成形,准备具有定位腔的定位套,将两个成形模板间隔叠置于定位腔,压紧两成形模板,以将坯料成形为双面微纳结构元件。本发明使双面微纳结构元件上下两个表面形成的两个图案区域能够高精度的对准,有效提高坯料在双面微纳结构加工过程中的成形精度。
本发明授权一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件在权利要求书中公布了:1.一种双面压印成形方法,其特征在于,包括如下步骤: 制模,准备图案化基底,所述图案化基底具有图案面,于所述图案面加工对准结构,并根据所述对准结构于所述图案面加工微纳结构; 切边,根据所述对准结构,沿第一方向切除所述图案化基底的一边缘且形成第一定位面;沿第二方向切除所述图案化基底的另一边缘并形成第二定位面,以使所述图案化基底加工为成形模板,所述第一方向与所述第二方向交错布置; 成形,准备具有定位腔的定位套,将两个所述成形模板间隔叠置于所述定位腔,两所述图案面相向设置;使两个所述第一定位面均抵接所述定位腔的一内壁,使两个所述第二定位面均抵接所述定位腔的另一内壁;使坯料放置于两所述成形模板之间并处于塑性状态,压紧两所述成形模板,以将所述坯料成形为双面微纳结构元件; 所述切边包括如下步骤: 第一次粗切边,沿第一方向切除所述图案化基底的边缘并形成第一切面,所述第一切面沿所述第二方向至所述对准结构的距离为第一预定值; 第一次精切边,沿第一方向切除所述图案化基底的边缘,以形成所述第一定位面,所述第一定位面与所述图案面相交并具有第一相交线,所述第一相交线相交所述对准结构; 所述切边还包括如下步骤: 第二次粗切边,沿第二方向切除所述图案化基底的另一边缘并形成第二切面,所述第二切面沿所述第一方向至所述对准结构的距离为第二预定值; 第二次精切边,沿第二方向切除所述图案化基底的另一边缘,以形成所述第二定位面,所述第二定位面与所述图案面相交并具有第二相交线,所述第二相交线相交所述对准结构; 所述对准结构包括多个对准标记,沿所述第一方向间隔且共线布置多个所述对准标记,沿所述第二方向间隔且共线布置多个所述对准标记;所述第一相交线依次相交对应的各所述对准标记;所述第二相交线依次相交对应的各所述对准标记; 所述第一相交线相交对应的各所述对准标记的同一位置,所述第二相交线相交对应的各所述对准标记的同一位置。
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