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深圳黑晶光电技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权

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龙图腾网获悉深圳黑晶光电技术有限公司申请的专利一种钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池的制备方法及电池获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121152479B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511682372.1,技术领域涉及:H10K39/15;该发明授权一种钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池的制备方法及电池是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成,并于2025-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。

一种钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池的制备方法及电池在说明书摘要公布了:本申请提供一种钙钛矿晶硅叠层太阳能电池的制备方法及电池,通过非全覆盖绝缘层来阻断自组装单分子层在隧穿层上的吸附,达到非全覆盖空穴传输层的效果,一方面,可以直接切断空穴传输层的横向导电网络,使空穴仅能沿预设的传输通道区纵向迁移,从根源上减少空穴扩散损耗;另一方面,采用绝缘层作为阻断材料,由于其优异的化学惰性和热稳定性,可作为部分“界面屏障”抑制钙钛矿层与SAM层的化学反应,减缓钙钛矿晶体因界面侵蚀导致的分解速率,而且,非全覆盖的设计还能减少SAM分子总用量40%‑55%,传输通道区的SAM分子无密集堆积,避免了传统结构中分子团聚引发的传输通道断裂、缺陷增多等问题。

本发明授权一种钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池的制备方法及电池在权利要求书中公布了:1.一种钙钛矿晶硅叠层太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括步骤:提供一具有绒面结构的晶硅底电池,依次在其表面制备隧穿层、非全覆盖绝缘层、非全覆盖空穴传输层以及钙钛矿顶电池其他膜层; 所述非全覆盖空穴传输层为自组装单分子层,所述非全覆盖绝缘层沉积于底部绒面结构的低谷区域,然后通过自组装单子分层覆盖绒面结构的高峰区域,从而补全隧穿层未被非全覆盖绝缘层覆盖的区域。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳黑晶光电技术有限公司,其通讯地址为:518110 广东省深圳市龙华区光浩工业园E栋2楼;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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