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龙图腾网获悉合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121115427B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511649076.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备是由刘秀梅;罗招龙设计研发完成，并于2025-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备在说明书摘要公布了：本申请涉及一种曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备，包括：获取锚图形的光强分布曲线，以及锚图形在目标曝光剂量下的目标关键尺寸；目标曝光剂量为标准曝光剂量范围的上限值或者下限值；根据目标关键尺寸和光强分布曲线，确定目标光强度阈值；对初始版图图形进行光刻仿真，得到光强分布数据；基于目标光强度阈值和光强分布数据确定初始版图图形上的热点区域；初始版图图形包括主图形和初始辅助图形，初始辅助图形用于对主图形进行光学临近校正；对位于热点区域的初始辅助图形进行修正，得到曝光辅助图形。基于本申请的曝光辅助图形的确定方法得到的曝光辅助图形在后续光刻过程中不会被曝光出来，进而提高了产品良率。

本发明授权曝光辅助图形的确定方法、装置和计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种曝光辅助图形的确定方法，其特征在于，包括： 获取锚图形的光强分布曲线，以及所述锚图形在目标曝光剂量下的目标关键尺寸；所述目标曝光剂量为标准曝光剂量范围的上限值或者下限值； 根据所述目标关键尺寸和所述光强分布曲线，确定目标光强度阈值； 对初始版图图形进行光刻仿真，得到光强分布数据； 基于所述目标光强度阈值和所述光强分布数据确定所述初始版图图形上的热点区域；所述初始版图图形包括主图形和初始辅助图形，所述初始辅助图形用于对所述主图形进行光学临近校正； 获取目标辅助图形和第一目标主图形之间的第一距离、所述目标辅助图形和第二目标主图形之间的第二距离；所述目标辅助图形为位于所述热点区域的所述初始辅助图形，所述目标主图形为与所述目标辅助图形相邻的主图形；所述第一目标主图形和所述第二目标主图形分别为位于所述目标辅助图形相对两侧的所述目标主图形； 获取第一目标主图形和第二目标主图形之间的第三距离； 在所述第三距离小于预设距离，且所述第一距离和所述第二距离不相等的情况下，沿与所述目标辅助图形的长边平行的方向，去除位于所述目标辅助图形两端区域的部分图形，得到所述曝光辅助图形； 在所述第三距离小于预设距离，且所述第一距离和所述第二距离相等的情况下，去除位于所述目标辅助图形中间区域的部分图形，将所述目标辅助图形分割为两个所述曝光辅助图形。

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