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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种基于复用型超表面的高精度激光三维纳米光刻系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120610446B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510783750.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于复用型超表面的高精度激光三维纳米光刻系统是由高辉;王星儿;熊伟;范旭浩;刘耘呈;胡邵东;李安泽;滕智琳;聂中天设计研发完成，并于2025-06-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于复用型超表面的高精度激光三维纳米光刻系统在说明书摘要公布了：本发明提出了一种基于复用型超表面的高精度激光三维纳米光刻系统，涉及激光三维纳米光刻技术领域，包括位于同一轴线上的光路调制模块、复用型超表面、样品夹持模块及图像观测模块，光路调制模块用于将激发光激光器发射的激发光调制为圆偏振光，将损耗光激光器发射的损耗光的调制为线偏振光，对激发光和损耗光的偏转方向进行调制；复用型超表面用于对激发光和损耗光进行聚焦，使激发光和损耗光在同一焦点分别对应产生紧聚焦焦点和三维空心光场；样品夹持模块用于平移和固定样品，使样品处于激发光和损耗光的照射区域，对样品进行三维微纳结构加工；图像观测模块用于对样品的三维微纳结构加工过程进行观察记录。本申请有助于提升光刻分辨率。

本发明授权一种基于复用型超表面的高精度激光三维纳米光刻系统在权利要求书中公布了：1.一种基于复用型超表面的高精度激光三维纳米光刻系统，其特征在于，包括位于同一轴线上的光路调制模块、复用型超表面7、样品夹持模块以及图像观测模块，其中， 所述光路调制模块用于将所述光路调制模块中的激发光激光器1发射的激发光调制为圆偏振光，将所述光路调制模块中的损耗光激光器3发射的损耗光的调制为线偏振光，并对所述激发光和所述损耗光的偏转方向进行调制； 所述复用型超表面7用于对所述激发光和所述损耗光进行聚焦，以使所述激发光和所述损耗光在同一焦点分别对应产生紧聚焦焦点和三维空心光场； 所述三维空心光场包括相互叠加的环形光场和瓶型光场，所述环形光场和所述瓶型光场对应的相位分布函数以及为了聚焦三维空心光场，编码时给所述环形光场和所述瓶型光场分别叠加聚焦相位函数分别表示为： ； ； ； 其中，φDou表示所述环形光场的螺旋相位分布函数，l表示拓扑荷值，α表示所述复用型超表面7的角坐标，φBot表示所述瓶型光场对应的相位分布函数，r表示所述复用型超表面7的径向坐标，k表示常数，D表示所述复用型超表面7的直径，φFoc表示聚焦相位分布函数，x0表示焦平面处焦点的横坐标位置，y0表示焦平面处焦点的纵坐标位置，f表示复用型超表面7的焦距，x表示复用型超表面7的横坐标位置，y表示复用型超表面7的纵坐标位置，λ表示入射光波长，n表示环境折射率； 所述样品夹持模块用于平移和固定样品，以使所述样品处于所述激发光和所述损耗光的照射区域，并对所述样品进行三维微纳结构加工； 所述图像观测模块用于对所述样品的三维微纳结构加工过程进行观察记录。

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