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龙图腾网获悉深圳市锦瑞新材料股份有限公司申请的专利一种高硬度类金刚石薄膜镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120556030B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510799723.0，技术领域涉及：C23C28/00；该发明授权一种高硬度类金刚石薄膜镀膜方法是由金烈;佘自力设计研发完成，并于2025-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高硬度类金刚石薄膜镀膜方法在说明书摘要公布了：本发明涉及类金刚石薄膜技术领域，尤其涉及一种高硬度类金刚石薄膜镀膜方法。上述高硬度类金刚石薄膜镀膜方法，将金属基材抛光，清洗，烘干，热处理，降至室温；送入真空镀膜装置中，通过离子源通入氩气，开启离子源刻蚀基材；分别以钛、碳化钛为靶材进行溅射沉积形成厚度为200‑400nm的沉积层；通入氩气和乙炔的混合气体，采用双极脉冲偏压方式形成厚度为0.5‑1.5μm的第一涂层；通入氩气、乙炔、甲硅烷的混合气体，氩气、乙炔、甲硅烷的流量比为1‑2：1‑2：0.1‑1，采用双极脉冲偏压方式形成厚度为1‑2μm的第二涂层；氩气保护下热处理后自然冷却至室温。

本发明授权一种高硬度类金刚石薄膜镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种高硬度类金刚石薄膜镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、将金属基材抛光，清洗，烘干，热处理，降至室温； S2、送入真空镀膜装置中，通过离子源通入氩气，开启离子源刻蚀基材；开启磁控电源，分别以钛、碳化钛为靶材进行溅射沉积形成厚度为200-400nm的沉积层； 刻蚀基材过程中，刻蚀时间为10-20min，设置偏压-400V～-500V，设置离子源功率为1-1.2kW，控制体系气压为0.1-0.8Pa； 溅射沉积过程中，钛靶材的靶功率为3-4kW并匀速降至功率为0，碳化钛靶材的靶功率从0匀速升高至3-4kW，且钛靶材的靶功率与碳化钛靶材的靶功率之和始终为3-4kW； S3、通入氩气和乙炔的混合气体，采用双极脉冲偏压方式形成厚度为0.5-1.5μm的第一涂层； S4、通入氩气、乙炔、甲硅烷的混合气体，氩气、乙炔、甲硅烷的流量比为1-2：1-2：0.1-1，采用双极脉冲偏压方式形成厚度为1-2μm的第二涂层； S5、氩气保护下热处理，随炉冷却至100-150℃取出，自然冷却至室温。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市锦瑞新材料股份有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市光明区公明街道下村社区第二工业区13号201整片；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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