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龙图腾网获悉光腾激光技术(德清)有限公司申请的专利一种柔性阵列微探针的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120364643B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510509152.2，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种柔性阵列微探针的制备方法是由李学文;陈祖军;谭晓婉;沈峰设计研发完成，并于2025-04-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种柔性阵列微探针的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了半导体及微电子领域的一种柔性阵列微探针的制备方法，包括如下步骤：步骤S1、提供石英玻璃基底，进行有机清洗处理，清洗过程包括丙酮‑异丙醇‑去离子水三步超声清洗，超声功率50～200W，时间5～15分钟，清洗后在80℃真空烘箱中干燥30分钟；步骤S2、在石英玻璃基底上制备紫外窄带滤光膜，所述滤光膜采用HfO22SiO22交替膜层结构。本发明针对宽光谱光刻机汞灯光谱范围300～600nm曝光光源设计了紫外窄带滤光片，实现了特定波长选择性透射，窄带滤光片提升衍射光场清晰度，改善微针侧壁光滑度；而且无需复杂掩模曝光设备或灰度掩模板制备，通过紫外窄带滤光片设计与衍射光场调控技术，简化工艺流程并提升微针几何精度，降低了工艺成本。

本发明授权一种柔性阵列微探针的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种柔性阵列微探针的制备方法，其特征在于：包括如下步骤： 步骤S1、提供石英玻璃基底，进行有机清洗处理，清洗过程包括丙酮-异丙醇-去离子水三步超声清洗，超声功率50～200W，时间5～15分钟，清洗后在80℃真空烘箱中干燥30分钟； 步骤S2、在石英玻璃基底上制备紫外窄带滤光膜，所述滤光膜采用HfO2SiO2交替膜层结构，膜层设计满足以下透射率要求： 目标波段内Tλ≥80%； 且带外抑制比≥30dB； 步骤S3、在滤光膜另一面通过磁控溅射镀制CrCrOx复合金属膜层； 步骤S4、进行光刻和反应离子刻蚀RIE，形成微米级圆孔阵列，刻蚀选择比满足： ； 其中：RCr为Cr刻蚀速率，RPR为光刻胶刻蚀速率； 在CrCrOx膜层上旋涂正性光刻胶，通过光刻和干法刻蚀形成微米级圆孔阵列，刻蚀参数：刻蚀气体Cl2:O2:Ar=40:8:10sccm，射频功率150W，真空度20mTorr；所得圆孔孔径5-50μm，周期10-200μm，深宽比≥5:1； 步骤S5、在刻蚀后的Cr膜面涂覆UV胶并曝光固化作为探针基底，涂覆参数：UV胶选用SU-82000系列或Loctite3526；旋涂转速500-3000rpm，胶层厚度50-200μm，厚度均匀性±3%以内； 步骤S6、对UV胶膜层进行等离子体活化处理，处理参数：O2Ar混合气体比例1:3，功率100～300W，气压10～50Pa，时间5～10分钟； 步骤S7、在活化后的表面涂覆负性光刻胶SU-82010，通过微孔阵列产生的贝塞尔衍射光场进行曝光，光强分布Ir,z近似贝塞尔函数：，其中J0为零阶贝塞尔函数，α为光吸收系数； 步骤S8、显影后形成高深宽比柔性阵列微针，显影参数：显影液为丙二醇甲醚醋酸酯，显影时间2～10分钟；所得微针锥角θ满足：，ΔI为径向光强变化率； 步骤S9、分离膜层，得到最终柔性阵列微针结构； 所述步骤S2中紫外窄带滤光膜的膜层结构为以下任一种： a对于360-370nm波段，采用"Air|LHL^42HLH^4|Substruct"的18层结构，膜层厚度为： Substruct|HfO244.98nmSiO263.54nm...SiO2118.79nm|Air； b对于400-410nm波段，采用"Air|LHL^42HLH^4|Substruct"的18层结构，膜层厚度为： Substruct|HfO236.28nmSiO263.04nm...SiO249.53nm|Air； c对于430-440nm波段，采用"Air|LH···LH|Substruct"的26层结构，膜层厚度为： Substruct|HfO227.44nmSiO264.63nm...SiO2127.70nm|Air。

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