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龙图腾网获悉浙江理工大学申请的专利一种自清洁型日间辐射降温涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118374199B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410615330.5，技术领域涉及：C09D133/16；该发明授权一种自清洁型日间辐射降温涂层及其制备方法是由易玲敏;任文君;张佳文;蔡英设计研发完成，并于2024-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种自清洁型日间辐射降温涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种自清洁型日间辐射降温涂层及其制备方法，制备方法包括：1向无机粒子的分散液中加入改性剂，对无机粒子进行改性，经分离、洗涤、干燥后，得到改性无机粒子；2将改性无机粒子加入至有机聚合物的分散液中，搅拌均匀后得到涂料；3将涂料涂覆到基材表面，静置、干燥，得到自清洁型日间辐射降温涂层。本发明的制备方法操作简单、制备周期短，在添加改性无机粒子的基础上，通过调控改性无机粒子的掺杂比例和涂层的厚度，使其具有较高的反射率，且具有良好的降温和自清洁效果，易于工业化生产。

本发明授权一种自清洁型日间辐射降温涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，包括： 1向无机粒子的分散液中加入改性剂，对无机粒子进行改性，经分离、洗涤、干燥后，得到改性无机粒子；所述的无机粒子为硫酸钡；无机粒子的平均粒径为500~5000nm； 2将改性无机粒子加入至有机聚合物的分散液中，搅拌均匀后得到涂料； 所述的有机聚合物为有机硅改性聚氨酯聚合物和含氟丙烯酸酯共聚物；有机硅改性聚氨酯聚合物的制备方法包括：将异佛尔酮二异氰酸酯、聚碳酸酯二元醇、端羟基硅油加入有机溶剂中，再加入催化剂，在惰性气体保护下于80~90℃搅拌反应1~5h；之后再加入1,4-丁二醇扩链反应1~2h；之后再加入乙二醇进行后扩链；待将异佛尔酮二异氰酸酯反应完全后得到有机硅改性聚氨酯聚合物；含氟丙烯酸酯共聚物的制备方法包括：将丙烯酸十三氟辛酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯和引发剂混合均匀，和乳化剂加入水混合、均质，均质后在冰水浴下粉碎得到乳液；将部分乳液在惰性气氛中，60~80℃搅拌反应，当乳液冒蓝光时，滴加剩余的乳液，加完后保温2~5h，得到含氟丙烯酸酯乳液；干燥后得到含氟丙烯酸酯共聚物； 3将涂料涂覆到基材表面，静置、干燥，得到自清洁型日间辐射降温涂层；所述的自清洁型日间辐射降温涂层中，改性无机粒子的质量分数为80~90%。

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