吉光半导体科技有限公司陈泳屹获国家专利权
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龙图腾网获悉吉光半导体科技有限公司申请的专利宽调谐滤波波导及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117311048B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311458460.4，技术领域涉及：G02F1/153；该发明授权宽调谐滤波波导及其制备方法是由陈泳屹;徐岩;袁雨;葛济铭;赵天野;张德晓;许琳琳;王珏;佟存柱设计研发完成，并于2023-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本宽调谐滤波波导及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光电子器件技术领域，特别涉及一种宽调谐滤波波导及其制备方法，滤波波导包括绝缘衬底，在绝缘衬底的顶部依次制备底部电极层和透明介质层，在透明介质层上制备光波导槽，在透明介质上垂直于光波导槽的方向制备有间隔排列的折射率调节层，通过折射率大于绝缘衬底的填平材料将折射率调节层与光波导槽填平形成填平层，在填平层上制备顶部电极层，折射率调节层为电致相变或电致变色材料，通过改变电致相变或电致变色材料的折射率，实现滤波波导反射谱或透射谱的宽调谐。本发明利用电致相变材料或电致变色材料，在电压或者电流控制下，其折射率的变化是普通的半导体器件或电光效应材料折射率变化的一千倍以上，因而具有调谐范围宽的特点。
本发明授权宽调谐滤波波导及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种宽调谐滤波波导，包括绝缘衬底，在所述绝缘衬底的顶部依次制备底部电极层和透明介质层，其特征在于，在所述透明介质层上制备光波导槽，在所述透明介质上垂直于所述光波导槽的方向制备有间隔排列的折射率调节层，通过折射率大于所述绝缘衬底的填平材料将所述折射率调节层与所述光波导槽填平形成填平层，在所述填平层上制备顶部电极层，所述折射率调节层为电致相变材料或电致变色材料，通过改变所述电致相变材料或电致变色材料的折射率，实现滤波波导反射谱或透射谱的宽调谐；电致相变材料或电致变色材料在电流或电压的作用下，体积和厚度不变，但性状发生改变，折射率的实部发生变化。
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