上海交通大学张祯获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网获悉上海交通大学申请的专利一种基于AAO模板提升氢致变色薄膜氢响应性能的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117187745B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311100414.7,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权一种基于AAO模板提升氢致变色薄膜氢响应性能的方法是由张祯;王廷炎;陈娟;张轶童;彭立明;刘鑫彩设计研发完成,并于2023-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于AAO模板提升氢致变色薄膜氢响应性能的方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于AAO模板提升氢致变色薄膜氢响应性能的方法,所述薄膜包括在基底上依次设置的AAO模板层、氢敏反应层、催化层和保护层。其制备方法为先向基底上转移AAO模板,随后在模板上溅射制备氢敏反应层,接着在氢敏反应层上原位生长催化层,最后在催化层上沉积保护层。本发明利用AAO模板透明的特点,通过AAO模板扩大氢致变色薄膜的比表面积,方便快捷地实现了氢致变色薄膜吸脱氢速率的提高。本方法工艺简单,可重复性强,性能提升明显,在氢气传感领域具有重要的应用前景。
本发明授权一种基于AAO模板提升氢致变色薄膜氢响应性能的方法在权利要求书中公布了:1.一种基于AAO模板提升氢响应性能的氢致变色薄膜,其特征在于,所述氢致变色薄膜包括在基底上依次设置的AAO模板层、氢敏反应层、催化层和保护层; 所述AAO模板层的厚度为450nm,孔径310nm,孔间距500nm; 所述氢敏反应层的材料选自镁-稀土、镁-过渡金属、镁-过渡金属氧化物中的任一种; 所述氢敏反应层的厚度为10-100nm; 所述催化层的材料为Pd或含Pd的合金,厚度为3-20nm; 所述保护层为氟碳膜层,厚度为10-50nm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海交通大学,其通讯地址为:200240 上海市闵行区东川路800号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励