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龙图腾网获悉武汉光迅科技股份有限公司申请的专利一种测量金属膜膜厚的优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116825254B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310843452.5，技术领域涉及：G16C60/00；该发明授权一种测量金属膜膜厚的优化方法是由冯宇;罗勇;张博;吴凡;徐晓辉设计研发完成，并于2023-07-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种测量金属膜膜厚的优化方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种测量金属膜膜厚的优化方法，包括：创建输入功率、金属膜膜厚和工艺时间之间的测量模型；根据真空镀膜理论，获取金属膜的第一极限电阻率；获取第一极限电阻率、金属膜材电阻率和金属膜膜厚之间的对应关系；将对应关系和第一极限电阻率输入到测量模型内，将测量模型转换为中间模型；对金属膜方阻与输入功率进行线性拟合，获取中间模型的参数，并利用中间模型的参数对测量模型的参数进行定标，并利用标定后的测量模型计算出金属膜膜厚。本发明对测量模型的参数进行标定，在保证测量模型准确性的同时，只需要知道工艺时间和输入功率就能通过标定后的测量模型，计算出金属膜膜厚；省去了金属膜膜厚的测量，极大降低成本提高效率。

本发明授权一种测量金属膜膜厚的优化方法在权利要求书中公布了：1.一种测量金属膜膜厚的优化方法，其特征在于，包括： 在预设工艺条件下，创建输入功率、金属膜膜厚和工艺时间之间的测量模型； 根据真空镀膜理论，获取金属膜的第一极限电阻率；所述根据真空镀膜理论，获取金属膜的第一极限电阻率，包括：制备金属膜；当测量到金属膜膜厚处于预设厚度范围内时，测量出金属膜对应的方阻和金属膜膜厚，并通过金属膜方阻定义计算出金属膜的第一极限电阻率；所述当测量到金属膜膜厚处于预设厚度范围内时，测量出金属膜对应的方阻和金属膜的电阻率，具体包括：获取所述预设厚度范围内的厚度上限值和厚度下限值；获取厚度上限值与厚度下限值之间的差值，并将差值按照预设数量进行等分，获取每个金属膜膜厚梯度值；当测量到金属膜膜厚与对应金属膜膜厚梯度值相等时，测量出金属膜的方阻，计算出每个梯度值的第一极限电阻率；当所有的金属膜膜厚梯度值对应的第一极限电阻率计算完毕后，选取所有金属膜膜厚梯度值中最小的第一极限电阻率作为金属膜最终的第一极限电阻率； 根据金属膜的电学性质，获取第一极限电阻率、金属膜材电阻率和金属膜膜厚之间的对应关系； 将所述对应关系和所述第一极限电阻率输入到所述测量模型内，将测量模型转换为金属膜方阻与输入功率的中间模型；其中，中间模型内的参数与测量模型内的参数相关； 对金属膜方阻与输入功率进行线性拟合，获取中间模型的参数，并利用中间模型的参数对测量模型的参数进行定标，并利用标定后的测量模型计算出金属膜膜厚。

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