东南大学周钰明获国家专利权
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龙图腾网获悉东南大学申请的专利一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116655856B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310809394.4，技术领域涉及：C08F283/02；该发明授权一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法是由周钰明;刘天赐;卜小海;何曼;王泳娟设计研发完成，并于2023-07-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法。聚合物树脂的制法为：利用功能性聚碳酸酯、对乙酰氧基苯乙烯、引发剂、星形RAFT剂制备聚合物树脂。利用2‑苄基甲基氨基‑9H‑硫杂蒽‑9‑酮、3‑氯丙基三乙氧基硅烷、碳酸钾、三乙氧基硅烷化合物和1,1,1,1,3,3,3‑六甲基二硅氧烷制备光引发剂。将聚合物树脂、光引发剂和添加剂、溶剂复配得光刻胶。该负性光刻胶具有良好热稳定性，并可通过特异性滤膜实现回收再利用，回收率达79～83％。本发明结合链自由体积设计和移动性控制，提升了材料玻璃化转变温度；并可实现光刻胶废液再循环。该负性光刻胶可用于晶圆级先进封装、微纳加工、高端光学等领域。
本发明授权一种用于光刻胶的聚合物树脂、负性光刻胶及回收方法在权利要求书中公布了：1.一种用于光刻胶的聚合物树脂，其特征在于，所述聚合物树脂具有如下结构： ； 其中，a~c分别为75~95，d~f分别为65~85，i~k分别为45~70，l~n分别为55~65； R’为中的一种。
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