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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第五十五研究所申请的专利一种石墨烯背栅电极的太赫兹波调制器及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116594201B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310344020.X，技术领域涉及：G02F1/01；该发明授权一种石墨烯背栅电极的太赫兹波调制器及其制造方法是由曹正义;魏仲夏;吴云;李忠辉;陶然;古宸溢设计研发完成，并于2023-04-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种石墨烯背栅电极的太赫兹波调制器及其制造方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种石墨烯背栅电极的太赫兹波调制器制造方法，包括以下步骤：生长和转移第一层石墨烯；光刻石墨烯背栅图形；光刻背栅电极图形并制备背栅电极；生长介质层；生长和转移第二层石墨烯；光刻石墨烯条带图形并制备石墨烯条带；光刻开口谐振环图形并制备开口谐振环金属。本申请公开了一种太赫兹波调制器，包括自下而上依次键合的高阻衬底、石墨烯背栅电极层、高K栅介质层；所述高K栅介质层上设置有阵列排布的石墨烯条带和开口谐振环金属，该开口谐振环金属环绕石墨烯条带设置，并于石墨烯条带物理接触。本申请通过在单层石墨烯上构建背栅电极，摆脱了导电衬底对太赫兹波的吸收，有效提升了太赫兹波调制器对太赫兹波的调制效率。

本发明授权一种石墨烯背栅电极的太赫兹波调制器及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种石墨烯背栅电极的太赫兹波调制器制造方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一、生长和转移第一层石墨烯：采用化学气相沉积法在Cu衬底上生长第一单层石墨烯，在第一单层石墨烯上蒸镀45～55nm厚度的第一Au膜后，腐蚀清除Cu衬底，后采用湿法转移将该第一单层石墨烯及其上第一Au膜转移至高阻衬底上； 步骤二、光刻石墨烯背栅图形：在第一Au膜表面采用平面光刻显影技术定义出石墨烯背栅图形，利用溶胶技术剥离石墨烯背栅图形外光刻胶后，使用腐金溶液腐蚀去除石墨烯背栅图形区域外的第一Au膜，再使用干法氧化去除石墨烯背栅图形外的石墨烯材料后，使用溶胶剥离技术剥离石墨烯背栅图形内光刻胶； 步骤三、光刻背栅电极图形并制备背栅电极:在石墨烯背栅图形内的第一Au膜和石墨烯背栅图形外的高阻衬底上采用平面光刻显影技术定义出背栅电极图形；该背栅电极图形包括位于石墨烯背栅图形内，用于连接电极和石墨烯的第一组成区域；用于安装测试电极，位在石墨烯背栅图形外的第二区域；完成图形定义后依次蒸镀厚度比为18～22nm:180～220nm:9～11nm的TiAuTi层完成金属化，再利用溶胶剥离技术，去除背栅电极图形外光刻胶及其上蒸镀金属，电极图形内保留的蒸镀金属形成背栅电极；再使用腐金溶液腐蚀去除背栅电极图形外的石墨烯表面金膜，完成背栅电极制作工艺； 步骤四、生长介质层：使用ALD法在完成石墨烯背栅图形内外的表面生长一层10～30nm的高K栅介质； 步骤五、生长和转移第二层石墨烯：采用化学气相沉积法在Cu衬底上生长第二单层石墨烯，在第二单层石墨烯上蒸镀45～55nm厚度的第二Au膜后，腐蚀清除Cu衬底，后采用湿法转移将蒸镀后的该第二单层石墨烯及其上第二Au膜转移至高K栅介质上； 步骤六、光刻石墨烯条带图形并制备石墨烯条带：在第二Au膜表面采用平面光刻显影技术定义出石墨烯条带图形，使用腐金溶液腐蚀去除图形区域外的Au膜，使用干法氧化去除图形区外的石墨烯材料，再利用溶胶剥离技术去除石墨烯条带图形内的光刻胶，使用腐金液腐蚀去除石墨烯条带图形内的第二Au膜，完成石墨烯条带制备； 步骤七、光刻开口谐振环图形并制备开口谐振环金属：在采用平面光刻显影技术定义开口谐振环图形，所述开口谐振环图形包括呈现阵列状分布、环绕石墨烯条带设置的若干个元开口谐振环，每个开口谐振环与其所环绕的石墨烯条带物理接触；在完成开口谐振环图形定义后的元件表面，依次蒸镀厚度比为18～22nm:180～220nm的TiAu层完成金属化，再通过溶胶剥离技术，剥离开口谐振环图形外的金属，保留在开口谐振环图形内的金属构成开口谐振环金属，完成太赫兹波调制器制作； 上述方法制得的太赫兹波调制器包括自下而上依次键合的高阻衬底1、石墨烯背栅电极层2、高K栅介质层3；所述高K栅介质层3上设置有阵列排布的石墨烯条带4和开口谐振环金属5，该开口谐振环金属5环绕石墨烯条带4设置，并与石墨烯条带4物理接触。

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