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龙图腾网获悉上海电子信息职业技术学院申请的专利一种超硬装饰涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116516289B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310314306.3，技术领域涉及：C23C14/14；该发明授权一种超硬装饰涂层及其制备方法是由徐焱良;何鸣;王向红设计研发完成，并于2023-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种超硬装饰涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于装饰涂层领域，具体涉及一种超硬装饰涂层及其制备方法。本发明所提供的超硬装饰涂层，其由内至外依次包括Ti层、CrSi层、TiCrSi层、TiCrSiN层、TiCrSiCN层，这种多层膜结构中，Ti层为打底层，CrSi层及TiCrSi层为过渡层及应力梯度缓解层，TiCrSiN层及TiCrSiCN为钢色装饰层及功能层，相比传统的钢色涂层，本发明提出的上述五层结构不仅颜色亮度高、反射性高，而且硬度和耐磨性远远大于基底材料，其性能也远优于现有涂层。本发明的超硬装饰涂层及工艺尤其适用于钟表、3C等电子产品等不锈钢壳体涂层应用。

本发明授权一种超硬装饰涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种超硬装饰涂层的制作方法，其特征在于，采用磁控溅射方法沉积多层膜，包括以下步骤： S1、开启Ti靶，在基底材料表面沉积Ti层作为第一层； S2、开启CrSi靶，在所述第一层上沉积CrSi层作为第二层； S3、开启Ti靶和CrSi靶，在所述第二层上沉积TiCrSi层作为第三层； S4、开启Ti靶和CrSi靶，充入反应气体N2，在所述第三层上沉积TiCrSiN层作为第四层； S5、开启Ti靶和CrSi靶，充入反应气体N2及C2H2，在所述第四层上沉积TiCrSiCN层作为第五层； 所采取的Ti靶、CrSi靶共4对均呈对角排布，形成闭合磁场；且Ti靶、CrSi靶均采用40KHz的中频磁控溅射法； CrSi靶采用热等静压法制作，比例为Cr:Si=90:10； 步骤S5中，充入工作气体Ar和反应气体N2及C2H2，且N2、C2H2均梯度增加，其中N2由起步20sccm以1sccmmin速度递增至60sccm，C2H2由起步15sccm以1sccmmin速度递增至55sccm；气压维持在0.35～0.45Pa，同时开启Ti、CrSi靶，靶电流均在20～25A，沉积时间40min，形成所述第五层。

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