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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利反馈系统及反馈方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116449652B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210017086.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权反馈系统及反馈方法是由周晓方设计研发完成，并于2022-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本反馈系统及反馈方法在说明书摘要公布了：本公开实施例提供了一种反馈系统及反馈方法。所述反馈系统包括：标记单元，对光刻胶依批次进行标记；识别单元，在晶圆生产时当光刻胶的标记发生变化时，获取当前所述标记的所述光刻胶的参数；比对单元，将当前所述标记的所述光刻胶的参数与预设光刻胶参数进行比对；执行单元，当当前所述标记的所述光刻胶的参数处于所述预设光刻胶参数范围外，调整当前所述标记的所述光刻胶生产时的曝光参数。上述技术方案，通过对光刻胶依批次进行标记，获取当前所述标记的所述光刻胶的参数，并将当前所述标记的所述光刻胶的参数与预设光刻胶参数进行比对，以便调整当前所述标记的所述光刻胶生产时的曝光参数，实现了在光刻过程中自动调整准确的曝光参数。

本发明授权反馈系统及反馈方法在权利要求书中公布了：1.一种反馈系统，其特征在于，包括： 标记单元，对光刻胶依批次进行标记； 识别单元，在晶圆生产时当光刻胶的所述标记发生变化时，获取当前所述标记的所述光刻胶的参数，所述光刻胶的参数包括所述光刻胶为掩膜形成的图形的关键尺寸参数； 比对单元，将当前所述标记的所述光刻胶的参数与预设光刻胶参数进行比对； 执行单元，当当前所述标记的所述光刻胶的参数处于所述预设光刻胶参数范围外，调整当前所述标记的所述光刻胶生产时的曝光参数；所述调整当前所述标记的所述光刻胶生产时的曝光参数，包括：将当前所述标记的所述光刻胶分为N批，N为大于或等于0的整数；第1批所述光刻胶的所述曝光参数的调整，依据前一所述标记的所述光刻胶生产时的所述曝光参数及校准值；第2批所述光刻胶的所述曝光参数的调整，依据当前所述标记第1批所述光刻胶生产时的所述曝光参数及校准值；当N大于或等于3且小于或等于6时，第N批所述光刻胶的所述曝光参数的调整，依据当前所述标记前N-1批的所述光刻胶生产时的所述曝光参数的平均值及校准值；当N大于或等于7时，第N批所述光刻胶的所述曝光参数的调整，依据当前所述标记N-5批到所述N-1批的所述光刻胶生产时的所述曝光参数的平均值及校准值。

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