东丽尖端素材株式会社千钟勋获国家专利权
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龙图腾网获悉东丽尖端素材株式会社申请的专利一种覆铜层压膜及包括其的电子器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116313233B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211553686.8，技术领域涉及：H01B5/14；该发明授权一种覆铜层压膜及包括其的电子器件是由千钟勋;李河树;朴钟容设计研发完成，并于2022-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种覆铜层压膜及包括其的电子器件在说明书摘要公布了：本发明公开一种覆铜层压膜及包括其的电子器件。所述覆铜层压膜包括：含氟基材；设置在所述含氟基材上的结合tie层；和设置在所述结合tie层上的铜层，所述结合层为包括金属‑氧M‑O键解离能M‑Obonddissociationenergy为400kJmol或更多的金属的金属层或含有该金属的合金层，所述结合层的厚度可以为10nm至100nm。
本发明授权一种覆铜层压膜及包括其的电子器件在权利要求书中公布了：1.一种覆铜层压膜，其包括：含氟基材； 设置在所述含氟基材上的结合层；和 设置在所述结合层上的铜层， 所述结合层为包括金属-氧M-O键解离能为400kJmol或更多的金属的金属层或含有该金属的合金层， 所述结合层的厚度为10nm至100nm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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