TES股份有限公司李锺贤获国家专利权
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龙图腾网获悉TES股份有限公司申请的专利基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116137240B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211376397.5，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权基板处理装置是由李锺贤设计研发完成，并于2022-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基板处理装置，更详细来说涉及一种为了改善基板的翘曲在基板的下表面进行沉积的情况下对基板的翘曲程度进行测定，从而可在基板的下表面沉积适当厚度的膜的基板处理装置。
本发明授权基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括： 工艺设备，配置有至少一个工艺腔室，所述至少一个工艺腔室在第一面沉积有第一膜的基板的第二面沉积第二膜； 设备前端模块，配置在所述工艺设备的前方且配置有供所述基板安装的装载端口； 传感器部，配置在所述设备前端模块以对所述基板的翘曲程度进行测定；以及 控制部，根据在所述传感器部测定的所述基板的翘曲程度对所述工艺腔室进行控制，以对在所述基板的第二面沉积的所述第二膜的沉积厚度进行调节， 其中所述工艺腔室包括腔室壳体、配置在所述腔室壳体的内部且支撑所述基板的基板支撑部、用于在所述基板的第二面沉积薄膜的第一气体供给部，以及支撑所述基板支撑部的下侧端部的基底板， 所述第一气体供给部以能够旋转的方式配置以使到所述基板的第二面的距离变化，或 所述第一气体供给部包括多个上下板，以能够分别上下移动的方式配置，以使到所述基板的第二面的距离变化， 其中，用于旋转所述第一气体供给部的第一驱动部和用于上下移动所述多个上下板的第二驱动部设置在由所述基板的第二面、所述基板支撑部和所述基底板所包围的空间内。
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