智腾科技股份有限公司虞子阳获国家专利权
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龙图腾网获悉智腾科技股份有限公司申请的专利可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116068864B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310069426.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法是由虞子阳设计研发完成，并于2023-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法在说明书摘要公布了：本发明属于芯片制造领域，提出了可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法。该方法利用连续透过率掩膜精准引导次分辨率辅助特征图形生成位置，在考虑了版图布局设计规则约束和透射光线相互作用范围影响之外，引入一项表征次分辨率辅助特征图形最终效果的优化目标，通过对不可解的分立解空间问题进行解空间的连续化松弛，在添加辅助特征后掩膜的图像生成质量和复杂度之间取得更好地平衡；对工艺偏差建模优化，产生的掩膜版能更有效对抗工艺偏差。优化芯片制造掩膜版，使得光刻之后的图案有较高的保真度。
本发明授权可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法在权利要求书中公布了：1.可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形生成方法，其特征在于，包括步骤如下： 步骤1，生成基于目标图片的连续透过率掩膜； 步骤2，利用步骤1生成的连续透过率掩膜的透过率分布引导次分辨率辅助特征图形候选种子的分布，形成次分辨率辅助特征图形的安全生成区域，构建次分辨率辅助特征图形种子候选集； 步骤3，根据次分辨率辅助特征图形间最小距离限制的要求，从步骤2的次分辨率辅助特征图形种子候选集中选择最有价值的次分辨率辅助特征图形种子，构建次分辨率辅助特征图形种子集； 步骤4，通过对步骤3次分辨率辅助特征图形种子集中的次分辨率辅助特征图形种子，分别进行图形演化，生成可提升光刻图形清晰度的次分辨率辅助特征图形。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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