河南科技大学宋克兴获国家专利权
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龙图腾网获悉河南科技大学申请的专利离子液体添加剂在电解铜箔中的应用及高抗拉高延伸电解铜箔的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116024618B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310155372.0，技术领域涉及：C25D1/04；该发明授权离子液体添加剂在电解铜箔中的应用及高抗拉高延伸电解铜箔的制备方法是由宋克兴;卢伟伟;徐鹏;朱倩倩;胡浩;杨斌;刘海涛;程楚设计研发完成，并于2023-02-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本离子液体添加剂在电解铜箔中的应用及高抗拉高延伸电解铜箔的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种离子液体添加剂在电解铜箔中的应用及高抗拉高延伸电解铜箔的制备方法，所述离子液体添加剂的结构为：其中，R11、R22代表任意烷基基团中的一种；X代表H、‑COOH、‑SO33H、‑PO33H、‑NH22、‑SH、‑CN中的一种；Y代表任意阴离子中的一种。本发明是利用定向合成的离子液体添加剂配制电解液，使其与电解液中的硫酸和硫酸铜产生协同促进作用，该添加剂在直流电沉积工艺条件下能够同步提高铜箔抗拉强度以及延伸率，降低铜箔表面粗糙度和平均晶粒尺寸；本发明采用可替代传统复合添加剂的新型单一离子液体添加剂，在减少添加剂种类以及用量的同时实现了铜箔性能的综合提升。
本发明授权离子液体添加剂在电解铜箔中的应用及高抗拉高延伸电解铜箔的制备方法在权利要求书中公布了：1.离子液体添加剂在电解铜箔中的应用，所述离子液体添加剂为1-胺丙基-3-甲基咪唑氯盐； 用于制备电解铜箔的方法包括： 1将阴极钛进行机械抛光以获得可重复使用的无氧化层表面； 2在去离子水中加入五水硫酸铜和硫酸配置成基础电解液； 3将所配置的硫酸铜-硫酸基础电解液进行温度调节； 4将达到调节温度后的硫酸铜-硫酸基础电解液加入电解槽中，并向其中加入所述的离子液体添加剂，搅拌，使添加剂与基础电解液充分混合后，开始在钛阴极上进行直流电沉积，电流密度保持在40Adm2~80Adm2，得到高抗拉强度和高延伸率的电解铜箔； 步骤2基础电解液中Cu2+离子含量为80gL~150gL，硫酸含量为65gL~110gL。
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