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龙图腾网获悉北京保利微芯科技有限公司申请的专利微通孔阵列金属滤网的制造方法及其金属滤网获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115814516B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211613882.X，技术领域涉及：B01D39/12；该发明授权微通孔阵列金属滤网的制造方法及其金属滤网是由陈辉;高亚钗;吴大林;武啸;苏辰宇;牛凤晓;刘志宇;刘强;谈晓峰;吴敬轩设计研发完成，并于2022-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本微通孔阵列金属滤网的制造方法及其金属滤网在说明书摘要公布了：本发明提供一种微通孔阵列金属滤网的制造方法及其金属滤网，微通孔阵列金属滤网的制造方法，包括如下步骤：制作光刻掩膜版；在硅片一侧面上形成氮化钛薄膜；键合形成玻璃‑氮化钛薄膜‑硅片三层三明治结构；在硅片的外侧面上旋涂光刻胶，放置光刻掩模版对光刻胶进行曝光、后烘、显影，之后对硅片上非胶区域进行刻蚀，去胶得到微柱阵列硅片结构；脉冲电铸，将电铸出的金属微孔结构与硅片剥离得到金属滤网；对得到的金属滤网进行去硅处理，得到预设厚度的微通孔阵列金属滤网。本发明能够制备出深宽比大于50：1的微通孔阵列金属滤网，大大提高了金属滤网的加工效率，最重要的是保证了金属滤网中微通孔的均匀性和一致性，CV值均小于5％。

本发明授权微通孔阵列金属滤网的制造方法及其金属滤网在权利要求书中公布了：1.一种微通孔阵列金属滤网的制造方法，其特征在于，包括如下步骤： 光刻掩膜版制作步骤，根据金属滤网的几何结构设计需求制作所述光刻掩膜版； 刻蚀停止层制备步骤，将硅片放入化学气相沉积室内在其一侧面上形成一层氮化钛薄膜，所述氮化钛薄膜构成所述刻蚀停止层； 组件形成步骤，将具有氮化钛薄膜的所述硅片与玻璃键合形成玻璃-氮化钛薄膜-硅片三层三明治结构； 微柱阵列结构制备步骤，在所述三层三明治结构中的硅片的外侧面上旋涂光刻胶，并在所述光刻胶一侧放置所述光刻掩模版对所述光刻胶进行曝光、后烘，再将后烘的所述光刻胶在显影液中进行显影，之后对所述硅片上非胶区域进行刻蚀，最后去胶得到所述微柱阵列硅片结构； 微孔电铸步骤，采用脉冲电铸对所述微柱阵列硅片结构进行电铸，将电铸出的金属微孔结构与硅片剥离得到所述金属滤网； 去硅处理步骤，对得到的所述金属滤网进行去硅处理，得到预设厚度的微通孔阵列金属滤网。

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