株式会社村田制作所;株式会社东北磁材研究所逸见和宏获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社村田制作所;株式会社东北磁材研究所申请的专利合金粒子获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115719668B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211033549.1，技术领域涉及：H01F1/147；该发明授权合金粒子是由逸见和宏;富田龙也;奥村慧;宇治克俊;高桥亨设计研发完成，并于2022-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本合金粒子在说明书摘要公布了：本发明提供一种具有高饱和磁通密度和优异的耐腐蚀性的合金粒子。本发明的合金粒子中，Fe与Co合计：82.2质量份～96.5质量份，Co：0质量份～30.0质量份，P：0质量份～4.5质量份，B：大于0质量份且5.0质量份以下，C：0质量份～3.0质量份，Si：0质量份～6.7质量份，Ni：大于0质量份且12.0质量份以下，Cr：大于0质量份且4.2重量份以下，Mo、W、Zr与Nb合计：0质量份～4.2质量份，P的质量份与Cr的质量份之和为7.4质量份以下，Ni的质量份与Cr的质量份的积为0.5以上，Fe、Co与Ni合计：97.0质量份以下。上述合金粒子包括非晶相，上述非晶相的体积比例为70％以上。
本发明授权合金粒子在权利要求书中公布了：1.一种合金粒子，包含非晶相， 含有Fe、B、Ni和Cr，任意包含Mo、W、Zr、Nb、Co、P、C和Si， 在所述合金粒子的深度方向的成分的浓度分布中，N1＞N2，Ni浓度为N1+N2×0.5的从表面起的平均的距离D为1.3nm以上，其中，N1为从表面起的深度0nm的Ni浓度，N2为从表面起的深度10nm～100nm的区域的平均Ni浓度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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