京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司李杰获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司申请的专利显示基板及其制作方法、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115715106B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110960462.8,技术领域涉及:H10K50/844;该发明授权显示基板及其制作方法、显示装置是由李杰;张伟;马彬彬;吴欣慰;王凌飞;朱大勇;蒋文娅设计研发完成,并于2021-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制作方法、显示装置在说明书摘要公布了:本公开是关于一种显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示领域。显示基板包括:衬底基板、至少两个环形堤坝和填充物。衬底基板具有显示区域和围绕显示区域的裂纹隔离区域;至少两个环形堤坝间隔地位于衬底基板的第一表面,且位于裂纹隔离区域内,至少两个环形堤坝均围绕显示区域,至少两个环形堤坝中相邻两个环形堤坝之间具有环形凹槽;填充物填充在环形凹槽内,填充物中靠近环形凹槽底部的部分为金属结构。当显示基板在进行切割、运输或者模组组装等过程中,产生裂纹时,在裂纹在延伸的过程中,裂纹会遇到环形凹槽,环形凹槽中具有金属结构,金属材料的抗断裂性能比较好,可以阻挡裂纹的延伸,从而提高显示基板阻挡裂纹延伸的能力。
本发明授权显示基板及其制作方法、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示基板,其特征在于,所述显示基板包括: 衬底基板,具有显示区域和围绕所述显示区域的裂纹隔离区域; 依次层叠在所述衬底基板的第一表面的有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间电介质、源漏极层和平坦化层,所述有源层、所述栅极层和所述源漏极层位于所述显示区域,所述栅极绝缘层、所述层间电介质和所述平坦化层位于所述显示区域和所述裂纹隔离区域; 至少两个环形堤坝,所述至少两个环形堤坝间隔地位于所述衬底基板的第一表面,且位于所述裂纹隔离区域内,所述至少两个环形堤坝均围绕所述显示区域,所述至少两个环形堤坝中相邻两个环形堤坝之间具有环形凹槽,所述环形凹槽包括第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽的底面宽度大于所述第一凹槽的顶面宽度,所述第二凹槽的底面宽度小于所述第一凹槽的顶面宽度,所述第一凹槽的顶面与所述第二凹槽的底面为同一平面; 填充物,包括金属结构和有机物结构,所述金属结构位于所述第一凹槽,所述有机物结构位于所述第二凹槽; 所述第一凹槽的顶面和底面位于所述栅极绝缘层,所述第二凹槽的顶面位于所述层间电介质;所述有机物结构与所述平坦化层为一体结构。
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