上海羲禾科技有限公司梁虹获国家专利权
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龙图腾网获悉上海羲禾科技有限公司申请的专利一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115602563B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211114685.3，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置是由梁虹;冯大增;王奕琼;武爱民设计研发完成，并于2022-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置在说明书摘要公布了：本申请涉及一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置，该方法包括：获取在初始掺杂浓度下制备的初始掺杂晶圆；将初始掺杂晶圆作为当前待测晶圆；通过对当前待测晶圆施加不同波长的光信号，测量当前待测晶圆上功能区的吸收光谱；吸收光谱包括光信号波长与光电流强度的对应关系；对吸收光谱进行分析处理，得到当前待测晶圆的当前工作波长；基于目标工作波长和当前工作波长，对初始掺杂浓度进行调整，得到目标掺杂浓度；目标掺杂浓度用于制备目标掺杂晶圆，目标掺杂晶圆的工作波长为目标工作波长。如此，可以在芯片制作初期，及时地发现掺杂不符合要求的晶圆，可以为晶圆掺杂工艺提供改进的方向，可以加快芯片开发的进度。
本发明授权一种晶圆掺杂浓度调整方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆掺杂浓度调整方法，其特征在于，应用于晶圆掺杂工艺，所述方法包括： 获取在初始掺杂浓度下制备的初始掺杂晶圆； 将所述初始掺杂晶圆作为当前待测晶圆； 通过对所述当前待测晶圆施加不同波长的光信号，测量功能区在不同波长下对应的光电流强度，得到吸收光谱；所述吸收光谱包括光信号波长与光电流强度的对应关系； 对所述吸收光谱进行分析处理，得到所述当前待测晶圆的当前工作波长； 基于目标工作波长和所述当前工作波长，对所述初始掺杂浓度进行调整，得到目标掺杂浓度；所述目标掺杂浓度用于制备目标掺杂晶圆，所述目标掺杂晶圆的工作波长为所述目标工作波长； 所述对所述吸收光谱进行分析处理，得到所述当前待测晶圆的当前工作波长，包括： 对光信号波长与光电流强度值的关系曲线进行求导，得到曲线的斜率； 将斜率峰值处的波长作为所述当前待测晶圆的当前工作波长。
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