台湾积体电路制造股份有限公司谢玮哲获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利反射型罩幕及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115390357B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210010786.X，技术领域涉及：G03F1/52；该发明授权反射型罩幕及其制造方法是由谢玮哲;吕啟纶;林秉勳;朱福盛;连大成;李信昌设计研发完成，并于2022-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本反射型罩幕及其制造方法在说明书摘要公布了：一种反射型罩幕及其制造方法，反射型罩幕包括基板、设置于基板上方的下反射多层、设置于下反射多层上方的中间层、设置于中间层上方的上反射多层、设置于上反射多层上方的覆盖层、及设置于形成于上反射层中且在中间层上方的沟槽中的吸收层。中间层包括除了铬、钌、硅、硅化合物及碳以外的金属。
本发明授权反射型罩幕及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种反射型罩幕，其特征在于，包含： 一基板； 一下反射多层，其设置于该基板上方； 一中间层，其设置于该下反射多层上方； 一上反射多层，其设置于该中间层上方； 一覆盖层，其设置于该上反射多层上方；及 一吸收层，其设置于形成穿过该覆盖层、于该上反射多层中且在该中间层上方的一沟槽中， 其中该覆盖层与该中间层由一相同材料制成，该相同材料包括选自由铟、碲、铜、锌、锝、镓及铊、其合金、其氧化物及其氮化物组成的群组中的一或多者。
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