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龙图腾网获悉纳糯三维科技控股有限公司申请的专利通过激光光刻装置在光刻材料中产生三维结构的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115343916B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210431197.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权通过激光光刻装置在光刻材料中产生三维结构的方法是由妮可·林德曼;马蒂亚斯·布朗谢;约尔格·霍夫曼设计研发完成，并于2022-04-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本通过激光光刻装置在光刻材料中产生三维结构的方法在说明书摘要公布了：一种通过激光光刻装置在光刻材料中产生三维目标结构42的方法，其中目标结构被定义为在激光光刻装置的写入区域内，激光写入束的聚焦区域26穿过通过光刻材料的扫描歧管38，其中在激光写入束的聚焦区域中，曝光剂量被照射到光刻材料中，并且结构区域52被局部定义，其中确定表示作为位置函数的扫描歧管的局部曝光剂量的至少一个曝光数据集，其中近似目标结构的结构基于该至少一个曝光数据集定义，其中分析此结构并确定至少一个代表分析结构的分析数据集，其中确定代表已定义结构与目标结构的偏差的偏差数据集，其中确定至少一个校正曝光数据集，并且其中定义基于该至少一个校正曝光数据集的校正结构。本发明还涉及一种激光光刻装置。

本发明授权通过激光光刻装置在光刻材料中产生三维结构的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于通过激光光刻装置10在光刻材料20中产生三维目标结构42的方法，其中，所述目标结构42被定义为，在所述激光光刻装置10的写入区域34内，激光写入束14的聚焦区域26穿过通过所述光刻材料20的扫描曲线38，其中，在所述激光写入束14的聚焦区域26中，曝光剂量照射到所述光刻材料20中并且局部定义结构区域52，所述方法包括： a提供至少一个曝光数据集，所述曝光数据集表示作为位置的函数的所述扫描曲线38的局部曝光剂量； b基于所述至少一个曝光数据集，在所述光刻材料20中定义近似所述目标结构42的结构48； c通过空间分辨成像测量方法来分析已经定义的结构48，并确定代表分析的结构48的至少一个分析数据集； d确定偏差数据集，其表示已经定义的结构48与所述目标结构42的偏差； e确定至少一个校正曝光数据集，所述校正曝光数据集表示作为位置的函数的补偿所述扫描曲线38的偏差所需的校正曝光剂量； f基于所述至少一个校正曝光数据集来定义校正结构。

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