ASML荷兰有限公司M·阿柯斯塞获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利调整用于光刻过程的模型的方法和相关联的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115053186B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180012976.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权调整用于光刻过程的模型的方法和相关联的设备是由M·阿柯斯塞;P·弗朗西斯科设计研发完成，并于2021-01-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本调整用于光刻过程的模型的方法和相关联的设备在说明书摘要公布了：一种调整用于特定图案形成装置的光刻过程的方法。所述方法包括：获得与光刻设备LA的物镜PS相关的波前数据420，所述波前数据是在使用所述特定图案形成装置MA进行的衬底W上的图案的曝光之后被测量的；根据所述波前数据445和参考波前430确定特定于图案的波前贡献，所述特定于图案的波前贡献与所述图案形成装置有关；以及使用所述特定于图案的波前贡献来调整460用于所述特定图案形成装置的所述光刻过程。
本发明授权调整用于光刻过程的模型的方法和相关联的设备在权利要求书中公布了：1.一种调整用于特定图案形成装置的光刻过程的方法，所述方法包括： 获得与光刻设备的物镜相关的波前数据，所述波前数据是在使用所述特定图案形成装置进行的衬底上的图案的曝光之后被测量的； 根据所述波前数据和参考波前确定特定于图案的波前贡献，所述特定于图案的波前贡献与所述特定图案形成装置有关；以及 使用所述特定于图案的波前贡献来调整用于所述特定图案形成装置的所述光刻过程。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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