芯恩(青岛)集成电路有限公司接桂云获国家专利权
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龙图腾网获悉芯恩(青岛)集成电路有限公司申请的专利测试掩模板获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223926753U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520711424.2,技术领域涉及:G03F1/44;该实用新型测试掩模板是由接桂云设计研发完成,并于2025-04-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本测试掩模板在说明书摘要公布了:本实用新型涉及一种测试掩模板。所述测试掩模板包括第一遮光图案、至少一个第二遮光图案以及透光区,第一遮光图案设置于测试掩模板的边界且限定出测试掩模板内部,第一遮光图案包括围成矩形的四个第一遮光条,第二遮光图案排布于测试掩模板的内部,第二遮光图案包括围成矩形的四个第二遮光条,相邻两个第二遮光条分别与相邻两个第一遮光条平行,透光区位于第一遮光条与第二遮光条之间以及不同的第二遮光条之间。在检测曝光机台遮光板的漏光情况时,移动遮光板位于设定位置并进行曝光显影后,通过对晶片表面形成的光刻胶图形与无漏光时形成的光刻胶图形进行对比,可以检测遮光板是否漏光以及漏光程度,便于及时获知机台健康程度。
本实用新型测试掩模板在权利要求书中公布了:1.一种测试掩模板,其特征在于,包括: 第一遮光图案,设置于所述测试掩模板的边界且限定出所述测试掩模板的内部,所述第一遮光图案包括围成矩形的四个第一遮光条; 至少一个第二遮光图案,排布于所述测试掩模板的内部,所述第二遮光图案包括围成矩形的四个第二遮光条,相邻的两个所述第二遮光条分别与相邻的两个所述第一遮光条平行;以及透光区,位于所述第一遮光条与所述第二遮光条之间以及不同的所述第二遮光条之间。
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