安徽华远装备科技有限公司潘宏胜获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽华远装备科技有限公司申请的专利一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223921518U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520569475.6，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置是由潘宏胜;梅艳慧;江湖;鲁启昌;叶显飞设计研发完成，并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，具体涉及一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置，通过真空腔室的底部设有支撑结构，支撑结构的顶端由下至上依次贴设有下布气板、密封垫、上布气板和防护板，下布气板、上布气板位于其宽度方向上的一侧设有气源接口，下布气板、上布气板位于其长度方向上的两侧侧端开设有出气孔，通过气源接口与气源管道相连，用于将工艺气体均匀分配到布气板中，防护板的两侧倾斜罩设于出气孔的外侧上方，用于遮挡避免靶材溅射到上布气板上，并导向沿阴极靶材的两侧向上出气，继而沿阴极靶材的长度方向上均匀分布，结构简单、安装方便，能够有效提高靶材镀膜均匀性、靶材利用率和镀膜质量。
本实用新型一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置在权利要求书中公布了：1.一种用于磁控溅射设备提高靶材利用率的阴极布气装置，设于磁控溅射设备的真空腔室1内，其特征在于： 所述真空腔室1内设有阴极靶材2，所述阴极靶材2成圆柱形形状设计，并水平横置于真空腔室1内； 所述真空腔室1的底部设有支撑结构3，所述支撑结构3位于阴极靶材2的下方，所述支撑结构3的顶端由下至上依次贴设有下布气板4、密封垫5、上布气板6和防护板7，下布气板4、密封垫5、上布气板6和防护板7的长度方向与阴极靶材2的长度方向相平行，下布气板4、上布气板6位于其宽度方向上的一侧设有气源接口8，下布气板4、上布气板6位于其长度方向上的两侧侧端开设有出气孔9，所述防护板7的两侧倾斜罩设于出气孔9的外侧上方。
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