上海海优威新材料股份有限公司;上海海优威应用材料技术有限公司周振兴获国家专利权
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龙图腾网获悉上海海优威新材料股份有限公司;上海海优威应用材料技术有限公司申请的专利一种激光蚀刻膜的保护结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223916982U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423278777.2,技术领域涉及:B23K26/70;该实用新型一种激光蚀刻膜的保护结构是由周振兴;周泱泱;陈焙才;王磊设计研发完成,并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种激光蚀刻膜的保护结构在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种激光蚀刻膜的保护结构,激光蚀刻膜具有至少一自由面,包括至少一第一膜,所述第一膜可剥离地设置在所述激光蚀刻膜自由面上;以及至少一第二膜,所述第二膜可剥离地设置在所述第一膜的一自由面上。通过本申请技术方案的实施,可剥离的第二膜具有保护第一膜的作用,使第一膜在搬运、存储过程中不受划伤,在激光蚀刻前,揭掉第一膜,激光通过无损伤的第二膜表面进入激光蚀刻膜,减少了激光蚀刻过程中由于保护膜表面划痕造成的激光反射和折射,减少了分区过程中出现的断点或失效。
本实用新型一种激光蚀刻膜的保护结构在权利要求书中公布了:1.一种激光蚀刻膜的保护结构,所述激光蚀刻膜具有至少一自由面,其特征在于,包括: 至少一第一膜,所述第一膜可剥离地设置在所述激光蚀刻膜自由面上;以及至少一第二膜,所述第二膜可剥离地设置在所述第一膜的一自由面上。
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