太仓迪科力科技有限公司瞿清获国家专利权
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龙图腾网获悉太仓迪科力科技有限公司申请的专利基于光学相干层析的半导体胶带内部气泡检测方法及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121120630B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511648708.2,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权基于光学相干层析的半导体胶带内部气泡检测方法及系统是由瞿清;钱健;陈高峰;瞿盛飞;崔旭;郑玺设计研发完成,并于2025-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于光学相干层析的半导体胶带内部气泡检测方法及系统在说明书摘要公布了:本发明涉及气泡检测技术领域,具体涉及基于光学相干层析的半导体胶带内部气泡检测方法及系统。其方法包括:获取胶带OCT数据并初步重构;计算体素子块局部结构熵,对高熵区域补充扫描;将信号沿深度分段,独立计算色散补偿系数校正后重构高精度三维数据;计算梯度幅值场与Hessian矩阵,结合球状结构响应度生成显著性图以分割气泡候选区域;识别候选区域上下表面,计算配对确认因子判定内部气泡。即本发明的方案平衡了检测效率与精度,克服了复杂色散效应,有效抑制干扰,显著降低了误判率。
本发明授权基于光学相干层析的半导体胶带内部气泡检测方法及系统在权利要求书中公布了:1.基于光学相干层析的半导体胶带内部气泡检测方法,其特征在于,包括以下步骤: 获取所述半导体胶带的三维光学相干层析原始干涉数据,并进行初步三维重构,得到初步三维体数据;将所述初步三维体数据划分为多个体素子块,对每一个体素子块计算一个局部结构熵值;当任一体素子块的局部结构熵值大于预设的熵阈值时,则对所述体素子块所对应的物理区域执行高密度补充扫描,并将补充扫描数据与原有数据合并; 对合并后的原始干涉数据中的每一条A‑scan信号,根据所述信号沿深度方向的局部信号特征划分为多个分段区间;对每一个分段区间,基于所述信号二阶与三阶相位项独立计算一个色散补偿系数,包括: 二阶色散系数的优化搜索范围为[‑4000,4000],三阶色散系数的优化搜索范围为[‑25000,25000];在二维参数空间内,采用粒子群优化算法,以重构后图像在所述分段区间内的强度平方和最大化为目标函数,迭代寻优得到最优的二阶与三阶色散系数组合,作为所述色散补偿系数;其中,为飞秒; 利用所述色散补偿系数对各对应分段区间内的信号进行校正后,再执行傅里叶变换,重构得到高精度三维体数据; 基于所述高精度三维体数据,计算所述高精度三维体数据三维梯度幅值场与三维Hessian矩阵;利用所述Hessian矩阵的特征值计算每一个体素的球状结构响应度;将所述梯度幅值场与所述球状结构响应度进行体素级的逐点相乘,生成一个气泡候选区域显著性图,并基于所述显著性图分割出多个气泡候选区域; 对于每一个气泡候选区域,沿光轴传播方向识别所述候选区域上表面与下表面;计算一个配对确认因子,根据所述配对确认因子判定所述气泡候选区域为内部气泡。
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