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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种光清洁仿真分析方法、装置、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120951610B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511471270.5，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种光清洁仿真分析方法、装置、电子设备及存储介质是由刘豪;郭可升;罗爱鑫;徐龙;周博涛设计研发完成，并于2025-10-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光清洁仿真分析方法、装置、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光清洁仿真分析方法、装置、电子设备及存储介质，涉及光清洁技术领域。该方法包括步骤：获取光清洁腔室的几何模型，并为几何模型设定仿真参数；在几何模型中添加几何光学物理场和层流物理场；对几何模型设置材料初始条件；通过对几何光学物理场进行射线追踪并对层流物理场进行稳态求解，模拟光清洁腔室内部的紫外光辐照度和气体流场，得到模拟结果；通过对模拟结果进行仿真分析，得到仿真分析结果。本发明的方法旨在解决现有光清洁技术在探索气路和光源布局时，因缺少有效指导方向而导致研究效率低下、试错成本高昂的问题，实现提高研究探索的效率，并减少实验中探索的成本。

本发明授权一种光清洁仿真分析方法、装置、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光清洁仿真分析方法，用于对光清洁腔室进行仿真分析，其特征在于，所述光清洁腔室的内部设置有多个紫外光光源和多个气流通道，且所述光清洁腔室的内部能够放置待清洁的基板；所述紫外光光源用于发出紫外光射线并照射在所述基板上以去除所述基板表面的附着物；所述气流通道用于供预设气体流经所述基板的表面； 所述光清洁仿真分析方法包括以下步骤： S1.获取所述光清洁腔室的几何模型，并为所述几何模型设定仿真参数；所述仿真参数包括所述预设气体在所述气流通道中的通入方式； S2.在所述几何模型中添加几何光学物理场和层流物理场；所述几何光学物理场用于描述所述紫外光射线在所述几何模型中的分布情况和所述基板表面的辐照度；所述层流物理场用于描述所述预设气体在所述气流通道内的流动情况； S3.对所述几何模型设置材料初始条件； S4.通过对所述几何光学物理场进行射线追踪并对所述层流物理场进行稳态求解，模拟所述光清洁腔室内部的紫外光辐照度和气体流场，得到模拟结果； S5.通过对所述模拟结果进行仿真分析，得到仿真分析结果； 步骤S2中，在所述几何模型中添加几何光学物理场的步骤包括： 通过将紫外光光源模拟为面光源，并以预设紫外光波长和预设紫外光功率，模拟从所述面光源的边界释放预设数量的所述紫外光射线，且所述紫外光射线的方向矢量呈预设形状，得到所述几何光学物理场； 将所述几何光学物理场添加到所述几何模型中。

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