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龙图腾网获悉深圳市中达瑞和科技有限公司申请的专利线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120945320B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511477537.1，技术领域涉及：C23C14/02；该发明授权线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片是由邓以实;张崇磊;郑帆;梁正平;刘湘宇设计研发完成，并于2025-10-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片在说明书摘要公布了：本发明提供了一种线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片，所述方法包括：S1、将光学玻璃放入清洁剂中进行超声波清洗，得到待镀膜的线性渐变滤光片的衬底；S2、将衬底放入射频磁控仪的反应腔，关闭反应腔，并设置多光谱镀膜的环境参数；S3、在环境参数下，采用双靶位的射频磁控在衬底的表面溅射并沉积靶材，其中，双靶位分别使用SiO22和Si作为靶材，通过调整射频磁控的功率区间来切换使用不同靶位交替进行其靶材的溅射沉积；S4、关闭射频磁控仪，使反应腔保持密闭并自然冷却至预设冷却温度后，开启反应腔并取出完成镀膜的衬底作为线性渐变滤光片。本发明工艺简洁，滤光片成品红外光谱性能好，适用于多种场景。

本发明授权线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法及线性渐变滤光片在权利要求书中公布了：1.一种线性渐变滤光片的多光谱镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤： S1、将光学玻璃放入清洁剂中进行超声波清洗，得到待镀膜的线性渐变滤光片的衬底； S2、将所述衬底放入射频磁控仪的反应腔，并设置多光谱镀膜的环境参数； S3、在所述环境参数下，通过所述射频磁控仪的双靶位在所述衬底的表面溅射并沉积靶材，其中，双靶位分别使用SiO2和Si作为靶材，通过切换使用不同靶位交替进行不同靶材的溅射沉积； S4、关闭所述射频磁控仪，使所述反应腔保持密闭并自然冷却至预设冷却温度后，开启所述反应腔并取出完成镀膜的所述衬底作为所述线性渐变滤光片； 其中，所述光学玻璃为K9玻璃； 所述清洁剂包括中性清洁液、去离子水以及异丙醇，步骤S1中，将所述光学玻璃依次放入所述中性清洁液、所述去离子水以及所述异丙醇进行超声波清洗； 步骤S2中的所述环境参数包括： 真空度，设置为1×10‑6~3×10‑6torr； 气氛，设置为通过18~20sccm的纯度为99.999%的氩气维持腔内压强为1mtorr； 温度，设置为110~120℃； 步骤S3中，双靶位分别为纯度为99.99%的SiO2靶、以及纯度为99.999%的Si靶； 步骤S3中，不同靶位交替进行不同靶材的溅射沉积的步骤中，在所述衬底的表面先后沉积得到下反射层、谐振腔层、上反射层以及长波通层，切换使用不同靶位交替进行不同靶材的溅射沉积是通过调整所述射频磁控仪的功率区间实现，其中： 所述下反射层由SiO2层和Si层交替沉积4次得到； 所述谐振腔层由SiO2层和Si层交替沉积6~8次得到； 所述上反射层由SiO2层和Si层交替沉积4次得到； 所述长波通层由SiO2层和Si层交替沉积5次得到。

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