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龙图腾网获悉深圳市众望丽华微电子材料有限公司申请的专利抛光液、制备方法、应用和抛光工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119775904B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411917195.6，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权抛光液、制备方法、应用和抛光工艺是由殷达;关飞飞;孙健设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本抛光液、制备方法、应用和抛光工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抛光液、制备方法、应用和抛光工艺，涉及抛光技术领域。所述抛光液的原料包括二氧化铈抛光粉、分散剂、螯合剂、pH调节剂、杀菌剂、和去离子水；所述分散剂选自阴离子型分散剂、非离子型分散剂的任一种。具有良好的分散性、稳定性、使用寿命以及抛光性能，制备方法简单，安全无污染，具有广泛的应用前景；本发明的抛光工艺可以很好地结合上述抛光液，使抛光效率和抛光质量进一步提高。

本发明授权抛光液、制备方法、应用和抛光工艺在权利要求书中公布了：1.一种抛光工艺，其特征在于，具体包括以下步骤： T10、使用抛光液对平面光学玻璃进行粗抛，抛光垫材料为聚氨酯白磨皮抛光垫，抛光头转速设为80rmin，抛光盘转速设为60rmin，抛光液流速设为60mlmin，抛光下压力设为50KPa，抛光时间设为30min，得到粗抛玻璃； T20、使用抛光液对所述步骤T10中制得的粗抛玻璃进行精抛，抛光垫材料为聚氨酯黑色阻尼布抛光垫，抛光头转速设为80rmin，抛光盘转速设为60rmin，抛光液流速设为40mlmin，抛光下压力设为30KPa，抛光时间设为2min，制得抛光处理后的产品； 所述抛光液包括以下质量百分比的原料：抛光粉：30%~60%；分散剂：0.02%~1%；螯合剂： 0.1%~2%；pH调节剂：0.5％~5%；杀菌剂：0.05%~0.5%；和余量的去离子水； 所述分散剂选自阴离子型分散剂、非离子型分散剂的任一种；所述阴离子型分散剂包括六偏磷酸钠和聚丙烯酸钠，所述六偏磷酸钠和聚丙烯酸钠的质量比为1：0.8~1.1；和或，所述非离子型分散剂包括聚乙烯吡咯烷酮和十六醇聚氧乙烯醚，所述聚乙烯吡咯烷酮和十六醇聚氧乙烯醚的质量比为0.8~1.2：2； 所述抛光粉的粒径范围满足：D50为0.5～2μm，D10＞0.2μm，D100＜5μm；且所述抛光粉中，二氧化铈的含量大于99wt%； 所述pH调节剂包括有机碱和无机碱，所述有机碱和无机碱的质量比为1:0.08~0.15，所述有机碱选自二乙醇胺、三乙醇胺、乙二胺、羟乙基二胺的任一种，所述无机碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锶的任一种。

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