湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司罗乙杰获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司申请的专利抛光层，抛光垫及抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119734199B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510005327.6，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权抛光层，抛光垫及抛光方法是由罗乙杰;毛丽华;高越设计研发完成，并于2025-01-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光层，抛光垫及抛光方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种抛光层，所述抛光层是由具有孔隙分隔连续的聚氨酯基材形成的均匀闭孔弹性体，所述抛光层表面包含微凸体，所述微凸体与被抛光物实质性接触从而形成微观接触面，所述抛光层在1psi～20psi压强条件下，所述抛光层与被抛光物的微观接触面积率介于0.01％～5％之间；将抛光层与被抛光物的微观接触面积控制在上述范围之内，可获得良好的抛光速率，较低的缺陷率以及研磨速率不均一性，适用于多种半导体制程。
本发明授权抛光层，抛光垫及抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光层，其特征在于，所述抛光层是由具有孔隙分隔连续的聚氨酯基材形成的均匀闭孔弹性体，所述抛光层表面包含微凸体，所述微凸体与被抛光物实质性接触从而形成微观接触面，所述抛光层在1psi～20psi压强条件下，所述抛光层与被抛光物的微观接触面积率介于0.01％～5％之间。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人湖北鼎汇微电子材料有限公司;湖北鼎龙汇盛新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司，其通讯地址为：430057 湖北省武汉市武汉经济技术开发区东荆河路1号411号房；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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