拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司杜志杰获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利散热装置、加热盘及薄膜沉积设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119725167B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411865179.7,技术领域涉及:H10P72/00;该发明授权散热装置、加热盘及薄膜沉积设备是由杜志杰;郭东设计研发完成,并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本散热装置、加热盘及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了:本发明公开了一种散热装置、加热盘及薄膜沉积设备,该散热装置用于对加热盘进行散热,散热装置包括:导热件、至少一导热管和冷却组件,所述导热件安装于所述加热盘的盘柄,所述导热管的一端连接所述导热件,所述导热管的另一端连接所述冷却组件,所述冷却组件用于冷却所述导热管;其中,所述导热管沿所述加热盘的盘柄的径向延伸以使所述冷却组件远离所述加热盘。通过本发明,通过导热管将热量传递至远离加热盘的区域再进行散热,避免在加热盘盘柄内部射频加热棒附近的狭窄空间内进行散热,将散热位置转移到附近的开阔区域,提高了散热效果,提高加热盘的可靠性。
本发明授权散热装置、加热盘及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了:1.一种散热装置,用于对加热盘进行散热,其特征在于,所述散热装置包括:导热件、至少一导热管和冷却组件,所述导热件安装于所述加热盘的盘柄,所述导热管的一端连接所述导热件,所述导热管的另一端连接所述冷却组件,所述冷却组件用于冷却所述导热管; 其中,所述导热管沿所述加热盘的盘柄的径向延伸以使所述冷却组件远离所述加热盘。
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