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龙图腾网获悉研微(江苏)半导体科技有限公司申请的专利用于半导体反应腔的进气系统及其离散控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119465092B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411593023.8，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权用于半导体反应腔的进气系统及其离散控制方法是由林兴;高培培;秦志坚;王菲设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于半导体反应腔的进气系统及其离散控制方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种用于半导体反应腔的进气系统及其离散控制方法。该进气系统包括控制器和至少一组进气管路，每组所述进气管路包括上游管路、混合器和若干下游管路，其中，所述上游管路与气源连接，所述混合器设置在所述上游管路和所述下游管路之间，所述下游管路连接至所述半导体反应腔，每个所述下游管路上设置有开关阀，所述开关阀用于自动控制所述下游管路的通断；所述控制器用于采用二进制数据列控制所述开关阀的开关状态以在基片上获得目标薄膜形态。该进气系统能够通过控制开关阀来通断相应下游管路进而调节该组进气管路中的气流，实现对半导体反应腔内流场的控制，进而对沉积形成的薄膜的形貌、厚度、掺杂均匀度等实现控制。

本发明授权用于半导体反应腔的进气系统及其离散控制方法在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体反应腔的进气系统，其特征在于，包括控制器和至少一组进气管路，每组所述进气管路包括上游管路、混合器和若干下游管路，其中，所述上游管路与气源连接，所述混合器设置在所述上游管路和所述下游管路之间，所述下游管路连接至所述半导体反应腔，每个所述下游管路上设置有开关阀，所述开关阀用于自动控制所述下游管路的通断； 所述控制器用于采用二进制数据列控制所述开关阀的开关状态以在基片上获得目标薄膜形态； 其中，所述下游管路被分为若干下游管路组，每组所述下游管路组包括至少一条所述下游管路，每组所述下游管路组对应于所述基片的不同区域； 每个所述下游管路上还设置有调节阀，所述调节阀用于控制所述下游管路的开度，从而将流经每一所述下游管路的流量设定为特定数值； 所述控制器被配置为：根据目标流量构建目标流量数据列，目标流量数据列中的每一流量数值对应若干下游管路组中的一组；获取或设定所述调节阀的开度，并根据所述调节阀的开度赋予所述目标流量数据列中的每一个流量数据值对应的二进制数据列，以及根据所述二进制数据列控制开关阀的通断，以使每组下游管路组的流量达到对应的目标流量； 其中，每组中的至少一条下游管路的上游端分别连接至所述混合器，或，每组中的至少一条下游管路的上游端汇总之后连接至所述混合器；所述混合器中设置有螺旋导流板，用于引导从所述上游管路进入所述混合器的气体充分混合。

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