科磊股份有限公司N·帕特威瑞获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利印刷检查中继器缺陷检测获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119343630B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380046080.1，技术领域涉及：G03F1/84；该发明授权印刷检查中继器缺陷检测是由N·帕特威瑞;J·A·史密斯;申宪周;孟柱相;K·吴;李晓春;李胡成设计研发完成，并于2023-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本印刷检查中继器缺陷检测在说明书摘要公布了：提供用于检测倍缩光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统经配置用于基于针对晶片上的不同行中的第一经图案化区域产生的图像来产生所述不同行中的所述第一经图案化区域的多个例子的不同经堆叠差异图像。所述系统还经配置用于基于所述不同经堆叠差异图像执行双重检测。接着，所述系统基于通过所述双重检测而检测到的缺陷来识别所述倍缩光罩上的缺陷。如本文中进一步描述，所述系统及方法检测来自印刷于晶片上的多个倍缩光罩行的缺陷，此可减少噪声且实现基本上小中继器缺陷的检测。实施例对于极紫外EUV倍缩光罩及多裸片倍缩光罩MDR的高敏感度中继器缺陷检测尤其有用。
本发明授权印刷检查中继器缺陷检测在权利要求书中公布了：1.一种经配置以检测倍缩光罩上的缺陷的系统，其包括： 检验子系统，其经配置以产生晶片的图像，其中倍缩光罩是用于在光刻过程中将经图案化区域印刷于所述晶片上，且其中所述经图案化区域包括对应于所述倍缩光罩上的相同区域且印刷于所述晶片上的不同行中的第一经图案化区域；及计算机子系统，其经配置用于： 基于通过所述检验子系统针对所述不同行中的所述第一经图案化区域产生的所述图像来产生所述不同行中的所述第一经图案化区域的多个例子的不同经堆叠差异图像； 通过对所述不同经堆叠差异图像应用缺陷检测方法来检测所述晶片上的所述第一经图案化区域的所述多个例子中的缺陷候选者，其中仅当所述缺陷检测方法在所述不同经堆叠差异图像中的位置处检测到缺陷候选者时，所述缺陷检测方法才确定所述缺陷候选者存在于所述第一经图案化区域的所述多个例子中的每一者中的所述位置处；及基于所述检测到的缺陷候选者来识别所述倍缩光罩上的缺陷。
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