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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119246417B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411362288.7，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法是由闫力松;马洋;余晨阳;姚旭峰;张金伟设计研发完成，并于2024-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法，属于半导体缺陷检测领域，该方法基于傅里叶光学原理求解晶圆表面图案的空间频谱，通过空间频谱分布设计相应空间频谱遮挡针，对晶圆表面图样进行过滤处理，以有效抑制图案噪声，突出显示晶圆表面其他种类的缺陷疵病，辅助暗场检测系统完成有图形晶圆的缺陷检测；该方法适用于各种形状和尺寸的有图案晶圆，由于空间频谱分析具有唯一性，可对不同图案的晶圆需进行频谱分析与傅里叶滤波器设计；此外，可通过改变滤波器中用于进行带通的滤波针的位置、滤波针之间的间隔等参数达到所需调制波面的设计要求，具有一定的设计自由度。

本发明授权一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体暗场缺陷检测的傅里叶过滤器的设计方法，其特征在于，所述傅里叶过滤器放置于散射型暗场检测系统的物镜与收集镜组之间，与物镜的距离为物镜的焦距f ，所述方法包括： S1，获取待测晶圆表面图案信号的二维空间频谱强度，根据、物镜与待测晶圆表面的间距d 0、物镜的焦距f 与物镜的后焦面上的复振幅分布之间的关系式，将待测晶圆图案信号的频率点转换为物镜后焦面上的成像点；其中，为探测光的波长； S2，去除能量低于阈值的频率点对应的成像点，根据保留的成像点的坐标，计算对应的频率点组成的频谱面分别在水平方向、竖直方向上的主极大峰和各次极大值峰的宽度及间距； S3，若待测晶圆图案具有旋转对称性，则所述傅里叶过滤器包括水平针和垂直针，否则所述傅里叶过滤器包括水平针或垂直针； 其中，所述水平针或垂直针的数量为所述水平方向或竖直方向上的主极大峰和次极大值峰的数量之和，宽度与水平方向或竖直方向上的主极大峰和各次极大值峰的宽度一一对应相等，相邻水平针或垂直针的间距与水平方向或竖直方向上的相邻峰的间距一一对应相等。

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