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龙图腾网获悉捷捷半导体有限公司申请的专利一种半导体器件清洗装置与系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118287436B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410559760.X，技术领域涉及：B08B3/08；该发明授权一种半导体器件清洗装置与系统是由俞嘉亮;李成军;倪亮亮;施健设计研发完成，并于2024-05-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体器件清洗装置与系统在说明书摘要公布了：本申请提出一种半导体器件清洗装置与系统，涉及半导体器件清洗技术领域。本申请提供了一种半导体器件清洗装置，该半导体器件清洗装置包括升降机构、样品放置机构、清洗机构以及烘干机构，样品放置机构与升降机构连接，且样品放置机构的底部设置有第一清洗孔；清洗机构位于样品放置机构的下方，且烘干机构位于样品放置机构的侧边；清洗机构内布置有清洗溶剂，当处于清洗状态时，待清洗样品置于样品放置机构内，且样品放置机构在升降机构的带动下浸入清洗机构中，待清洗样品的局部通过第一清洗孔与清洗溶剂接触；当清洗完成后，升降机构复位，并通过烘干机构对待清洗样品进行烘干。本申请具有能够对半导体器件进行局部清洗的优点。

本发明授权一种半导体器件清洗装置与系统在权利要求书中公布了：1.一种半导体器件清洗装置，其特征在于，所述半导体器件清洗装置包括升降机构、样品放置机构、清洗机构以及烘干机构，所述样品放置机构与所述升降机构连接，且所述样品放置机构的底部设置有第一清洗孔；所述清洗机构位于所述样品放置机构的下方，且所述烘干机构位于所述样品放置机构的侧边； 所述清洗机构内布置有清洗溶剂，当处于清洗状态时，待清洗样品置于所述样品放置机构内，且所述样品放置机构在所述升降机构的带动下浸入所述清洗机构中，所述待清洗样品的局部通过所述第一清洗孔与所述清洗溶剂接触； 当清洗完成后，所述升降机构复位，并通过所述烘干机构对所述待清洗样品进行烘干； 所述半导体器件清洗装置还包括吸嘴机构，所述吸嘴机构位于所述样品放置机构的上方； 当处于清洗状态时，所述吸嘴机构用于吸附所述待清洗样品，并将 所述待清洗样品置于所述样品放置机构内； 当清洗完成后，所述吸嘴机构用于吸附所述待清洗样品并移出所述样品放置机构； 所述升降机构包括第一伸缩元件、第二伸缩元件以及升降底座，所述第一伸缩元件、所述第二伸缩元件以及所述升降底座依次连接，且所述第一伸缩元件可相对于所述第二伸缩元件伸缩，所述第二伸缩元件可相对于所述升降底座伸缩；其中，所述吸嘴机构安装于所述第一伸缩元件上，所述样品放置机构安装于所述第二伸缩元件上； 所述半导体器件清洗装置还包括防腐垫片，所述防腐垫片设置有第二清洗孔，所述防腐垫片位于所述样品放置机构的底部，且所述第二清洗孔的正投影面积位于所述与所述第一清洗孔的正投影面积内。

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