应用材料公司库纳尔·巴哈特纳瓜获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利降低沉积速率的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117425746B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280039759.3，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权降低沉积速率的方法是由库纳尔·巴哈特纳瓜;莫希斯·维尔格瑟设计研发完成，并于2022-06-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本降低沉积速率的方法在说明书摘要公布了：公开了一种展示较慢生长速率的沉积方法。本公开的一些实施方式提供了利用含卤化物生长抑制剂作为与金属卤化物前驱物和反应物的共反应物的CVD方法。本公开的一些实施方式涉及CVD和ALD方法，该CVD和ALD方法包括将基板表面暴露于包括含卤化物生长抑制剂的预处理。
本发明授权降低沉积速率的方法在权利要求书中公布了：1.一种沉积方法，包括： 将基板表面暴露于含卤化物生长抑制剂，所述基板表面具有形成于其中的至少一个特征，所述至少一个特征从所述至少一个特征外部的顶表面延伸一深度至底部并且具有由两个侧壁之间的平均距离界定的宽度；以及将所述基板表面暴露于金属卤化物前驱物及反应物以形成含金属层，其中所述含金属层的生长速率相比于未将所述基板表面暴露于所述含卤化物生长抑制剂的类似沉积方法降低，其中所述含金属层被沉积为在所述至少一个特征的所述底部比在所述至少一个特征的外部的所述顶表面具有更大的厚度，并且其中所述含金属层在所述至少一个特征的所述底部附近具有在所述至少一个特征的外部的所述顶表面厚度的100至120％的范围内的厚度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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