呈和科技股份有限公司何洁冰获国家专利权
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龙图腾网获悉呈和科技股份有限公司申请的专利一种含膦基水滑石的红外保温薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117247625B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311141430.0，技术领域涉及：C08L23/0807；该发明授权一种含膦基水滑石的红外保温薄膜是由何洁冰;刘源;成晓玲;袁华金设计研发完成，并于2023-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含膦基水滑石的红外保温薄膜在说明书摘要公布了：本发明提供一种含膦基水滑石的红外保温薄膜，其包含线性低密度聚乙烯LLDPE和乙二胺四甲叉膦酸根离子插层水滑石，插层水滑石的分子式为：M2+2+1‑x1‑xM3+3+xxOH22C66H1919N22O1212P44‑‑aaNO33‑‑bb·mH22O；其中M2+2+是Zn2+2+或Mg2+2+；M3+3+是Al3+3+或Fe3+3+；0.1X0.8；a,b分别为C66H1919N22O1212P44‑‑和NO33‑‑的数量，n×a+b＝X；m为结晶水数量，0.01m4。该保温薄膜对9～11μm波段的吸光度面积大，添加质量分数4％的插层水滑石的LLDPE薄膜的吸光度面积提高了105％，保温薄膜棚内温度白天下降4％～15％，夜晚温度提高4％～17％。且兼具优良的热稳定性和力学性能。
本发明授权一种含膦基水滑石的红外保温薄膜在权利要求书中公布了：1.一种含膦基水滑石的红外保温薄膜，其特征在于，所述保温薄膜包含线性低密度聚乙烯LLDPE和乙二胺四甲叉膦酸根离子插层水滑石，该插层水滑石简写为EDTMPS‑LDH，其分子式为：M2+1‑xM3+xOH2C6H19N2O12P4‑aNO3‑b•mH2O；其中M2+是Zn2+或Mg2+；M3+是Al3+或Fe3+；0.1X0.8；a,b分别为C6H19N2O12P4‑和NO3‑的数量，a+b=X；m为结晶水数量，0.01m4；所述EDTMPS‑LDH经过硅烷偶联剂KH570表面改性，形成KH570‑EDTMPS‑LDH，所述KH570‑EDTMPS‑LDH含量为线性低密度聚乙烯LLDPE的质量的1%至4%。
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