中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))周阳磊获国家专利权
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龙图腾网获悉中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))申请的专利界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116623182B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310616261.5，技术领域涉及：C23F1/34；该发明授权界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法是由周阳磊;陈泽坚;刘凯;洪瑛旭;柯自攀;吕海强;关良伟;方贵练;肖慧设计研发完成，并于2023-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法。界面合金共化物刻蚀液包括以下体积分数的原料：氨水45％～55％和双氧水45％～55％；其中，所述氨水的质量分数为25％～28％，所述双氧水的质量分数为30％～50％。该刻蚀溶液仅通过一次刻蚀就能同时刻蚀界面合金共化物中的锡、铜、银、铅、金、镍等多种金属，并使各金属界面暴露出清晰分明的内部纹理，有利于后续进行电路板的可靠性分析。该界面合金共化物刻蚀液的原料简单、成本低廉、配制方便、刻蚀时间短，适用于界面合金共化物的大批量快速实验。
本发明授权界面合金共化物刻蚀液、刻蚀方法和制样方法在权利要求书中公布了：1.一种界面合金共化物刻蚀液，其特征在于，包括以下体积分数的原料：氨水45%~50%、双氧水45%~50%以及1%~5%的纯水；其中，所述氨水的质量分数为25%~28%，所述双氧水的质量分数为30%~50%；所述界面合金共化物的成分包括锡、银、铜、铅、镍、金中的至少两种。
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