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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)有限公司申请的专利SEM图像的轮廓提取方法、装置、计算机设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115841496B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211291246.X，技术领域涉及：G06T7/13；该发明授权SEM图像的轮廓提取方法、装置、计算机设备及存储介质是由梁洪齐设计研发完成，并于2022-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本SEM图像的轮廓提取方法、装置、计算机设备及存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体制造、计算光刻技术领域，具体涉及一种SEM图像的轮廓提取方法、装置、计算机设备及存储介质。SEM图像的轮廓提取方法包括以下步骤：从SEM图像中提取出M个离散的轮廓点，其中M为整数；随机选取N个初始控制点，基于N个初始控制点得到初始贝塞尔曲线，其中N为整数且N小于等于M；对N个初始控制点进行校准以使初始贝塞尔曲线与M个轮廓点逐渐贴合得到校准后的贝塞尔曲线；将校准后得到的贝塞尔曲线作为SEM图像提取的轮廓信息输出。本发明的轮廓提取方法解决了现有的SEM图像的轮廓提取技术中，轮廓提取结果数据量大及轮廓信息丢失的技术问题。本发明的轮廓提取装置、计算机设备及存储介质具有与轮廓提取方法相同的有益效果。

本发明授权SEM图像的轮廓提取方法、装置、计算机设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种SEM图像的轮廓提取方法，其特征在于：所述SEM图像的轮廓提取方法包括以下步骤： 从所述SEM图像中提取出M个离散的轮廓点，其中M为整数，所述轮廓点为所述SEM图像的峰值点； 随机选取N个初始控制点，基于N个所述初始控制点得到初始贝塞尔曲线，其中N为整数且N小于等于M； 对N个所述初始控制点进行校准以使所述初始贝塞尔曲线与M个所述轮廓点逐渐贴合得到校准后的贝塞尔曲线； 将校准后的贝塞尔曲线作为所述SEM图像提取的轮廓信息输出；其中，对N个所述初始控制点进行校准以使所述贝塞尔曲线与所述轮廓点逐渐贴合具体包括步骤： 根据M个所述轮廓点和所述贝塞尔曲线生成预设的损失函数； 基于预设的梯度算法迭代移动所述初始控制点直至所述损失函数满足预设条件； 获取满足预设条件后的当前控制点的最终位置信息； 基于所述最终位置信息得到校准后的贝塞尔曲线； 所述基于预设的梯度算法迭代移动所述初始控制点，包括： 获取每一次迭代后的控制点相对前一次的控制点的移动方向信息和距离信息； 根据所述方向信息和所述距离信息移动所述控制点； 获取所述峰值点具体包括步骤： 对所述SEM图像进行像素化处理并得到原始矩阵； 对所述原始矩阵进行高斯滤波处理后得到图像矩阵并计算所述图像矩阵中的所有像素点的梯度值； 将所述原始矩阵划分为预设大小的分块，确定每个所述分块内梯度值最大的中间像素点； 将所述梯度值大于预设的梯度阈值的中间像素点作为关键像素点，并记录所述关键像素点的坐标和梯度方向； 在所述原始矩阵中，从所述关键像素点的坐标开始，沿所述梯度方向确定预设寻找范围内的最亮的像素点，将该像素点作为所述峰值点，所述像素点的亮度根据该像素点的灰度值确定。

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