北京科华微电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司张咪获国家专利权
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龙图腾网获悉北京科华微电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司申请的专利一种光刻胶及其应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115793391B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211513745.9,技术领域涉及:G03F7/004;该发明授权一种光刻胶及其应用是由张咪;李冰;刁翠梅;詹捷;张益涛;陈昕;王文芳;董栋;张宁设计研发完成,并于2022-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻胶及其应用在说明书摘要公布了:本申请提供一种光刻胶及其应用,属于半导体及集成电路技术领域。光刻胶包括10wt%~30wt%酚醛树脂、2wt%~10wt%重氮萘醌感光剂和0.1wt%~10wt%添加剂。本申请在重氮萘醌型光刻胶中加入含卤素的添加剂,添加剂能够和光刻胶中的其他成分相互作用,从而提高光刻胶的光敏感度,且能够使得光刻胶具有较好的光刻性能,具体表现为侧壁较垂直的形貌。
本发明授权一种光刻胶及其应用在权利要求书中公布了:1.一种光刻胶,其特征在于,所述光刻胶包括:10wt%~30wt%酚醛树脂、2wt%~10wt%重氮萘醌感光剂和0.1wt%~10wt%添加剂; 所述添加剂的结构式如下: 其中,R1选自X、C1~6烷基‑X或phm‑X; R2选自H、Y、C1~6烷基‑Y或phn‑Y; X、Y各自独立地选自F、Cl、Br或I,m、n取自1~3的整数; R3选自。
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