中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所吴东岷获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所申请的专利光扫描式激光干涉直写设备及直写方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115268236B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211035218.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光扫描式激光干涉直写设备及直写方法是由吴东岷;余冠群;曾中明;张宝顺;许玥;苑文强设计研发完成，并于2022-08-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本光扫描式激光干涉直写设备及直写方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光扫描式激光干涉直写设备以及直写方法，直写设备包括光学扫描头、光路系统以及载物台。光学扫描头用以提供能在一定平面范围内移动的扫描光束；光路系统至少包括沿扫描光束的光路方向依次设置的分光装置以及成像组件，分光装置用以将扫描光束衍射分光以形成至少两束相干的激光光束，成像组件用以将激光光束重新聚焦并形成干涉条纹，以在曝光对象上进行激光干涉直写；载物台可被控制的始终保持于成像组件的像平面上，且能在所述像平面内移动。本发明的光扫描式激光干涉直写设备，利用光学扫描头扫描速度快，控制精度高的特点，结合分光装置，可以大大缩减点阵干涉图案的直写时间。
本发明授权光扫描式激光干涉直写设备及直写方法在权利要求书中公布了：1.一种光扫描式激光干涉直写设备，其特征在于，包括： 光学扫描头，用以提供能在一定平面范围内移动的扫描光束； 光路系统，至少包括沿所述扫描光束的光路方向依次设置的分光装置以及成像组件，所述分光装置设置于旋转位移台上，所述分光装置用以将所述扫描光束衍射分光以形成至少两束相干的激光光束，所述成像组件用以将所述激光光束重新聚焦并形成干涉条纹，以在曝光对象上进行激光干涉直写； 载物台，可被控制的始终保持于所述成像组件的像平面上，且能在所述像平面内移动； 其中，所述光学扫描头生成可形成目标图案的扫描光束并使该扫描光束进入所述光路系统；所述光路系统中的分光装置转动以进行所述目标图案的激光干涉直写，所述分光装置的不同转动角度对应所述目标图案的不同颜色；所述载物台移动进行图案的拼接以形成完整目标图案的激光干涉直写。
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