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龙图腾网获悉上海众壹云计算科技有限公司申请的专利一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115172199B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210835055.9，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统是由唐磊;沈剑;姚玉静设计研发完成，并于2022-07-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统，其中该方法包括：获取待测晶圆图像中的多个缺陷点；基于预设的最小核心点数与邻域阈值对所述多个缺陷点进行聚类，得到多个第一簇，其中，所述最小核心点数设为1；基于所述待测晶圆图像中的缺陷特征确定至少一个特征核心点数阈值范围，所述缺陷特征包括：缺陷尺寸，和或缺陷类型；基于至少一个所述特征核心点数阈值范围对所述多个第一簇进行至少一次过滤，对应得到至少一类第二簇，其中，同一类所述第二簇中对应包括的所述缺陷点的个数属于对应的所述特征核心点数阈值范围。本发明所提供的方法及系统能够对线形缺陷和聚集型缺陷进行准确识别。

本发明授权一种用于识别晶圆缺陷的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于识别晶圆缺陷的方法，其特征在于，包括： 获取待测晶圆图像中的多个缺陷点； 基于预设的最小核心点数与邻域阈值对所述多个缺陷点进行聚类，得到多个第一簇，其中，所述最小核心点数设为1；其中，所述第一簇包括：聚集型缺陷、线形缺陷； 基于所述待测晶圆图像中的缺陷特征确定至少一个特征核心点数阈值范围，所述缺陷特征包括：缺陷尺寸，和或缺陷类型； 基于至少一个所述特征核心点数阈值范围对所述多个第一簇进行至少一次过滤，对应得到至少一类第二簇，其中，同一类所述第二簇中对应包括的所述缺陷点的个数属于对应的所述特征核心点数阈值范围； 获取所述第二簇所对应包括的多个所述缺陷点的位置信息； 基于多个所述位置信息确定与所述第二簇相对应的拟合曲线； 基于所述拟合曲线对相应的所述缺陷点进行筛选，将与所述拟合曲线的间距大于预设的第一间距的缺陷点判定为不相关点，将与所述拟合曲线的间距小于或等于所述第一间距的缺陷点判定为目标点； 基于所述目标点对所述第二簇的缺陷点信息进行更正。

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