北京怀柔实验室田宝华获国家专利权
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龙图腾网获悉北京怀柔实验室申请的专利用于栅控晶体管的测试结构和测试器件获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223899702U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520456408.3，技术领域涉及：H10W46/00；该实用新型用于栅控晶体管的测试结构和测试器件是由田宝华;金锐;李翠;和峰;郝夏敏;刘江;聂瑞芬设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于栅控晶体管的测试结构和测试器件在说明书摘要公布了：本申请提供了一种用于栅控晶体管的测试结构和测试器件，该测试结构包括：衬底；外延层，位于衬底的一侧，外延层的掺杂类型与衬底的掺杂类型相同；第一注入区，位于外延层中，第一注入区的掺杂类型与外延层的掺杂类型不同；栅极结构，至少位于第一注入区的远离衬底的部分表面上；第二注入区，位于第一注入区中，第二注入区的掺杂类型与第一注入区的掺杂类型相同；第一电极，至少位于第二注入区的远离衬底的部分表面上，在预定方向上，第一电极位于栅极结构的一侧，且第一电极与栅极结构不接触；第二电极，位于衬底的远离外延层的表面上。本申请解决了现有技术中用于栅控晶体管多参数测试的测试结构占用较大的晶圆面积的问题。
本实用新型用于栅控晶体管的测试结构和测试器件在权利要求书中公布了：1.一种用于栅控晶体管的测试结构，其特征在于，测试结构包括： 衬底； 外延层，位于所述衬底的一侧，所述外延层的掺杂类型与所述衬底的掺杂类型相同； 第一注入区，位于所述外延层中，所述第一注入区的远离所述衬底的表面为所述外延层的远离所述衬底的部分表面，所述第一注入区的掺杂类型与所述外延层的掺杂类型不同； 栅极结构，至少位于所述第一注入区的远离所述衬底的部分表面上； 第二注入区，位于所述第一注入区中，所述第二注入区的远离所述衬底的表面为所述第一注入区的远离所述衬底的部分表面，所述第二注入区的掺杂类型与所述第一注入区的掺杂类型相同； 第一电极，至少位于所述第二注入区的远离所述衬底的部分表面上，在预定方向上，所述第一电极位于所述栅极结构的一侧，且所述第一电极与所述栅极结构不接触，所述预定方向为垂直于所述衬底厚度的方向； 第二电极，位于所述衬底的远离所述外延层的表面上。
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