天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体科技股份有限公司张牧翔获国家专利权
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龙图腾网获悉天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体科技股份有限公司申请的专利一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223899619U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-02-10发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422961574.7,技术领域涉及:H10P72/00;该实用新型一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机是由张牧翔;刘松松;徐化祥;王帅;谭永麟设计研发完成,并于2024-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机在说明书摘要公布了:本实用新型提供了一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机,涉及半导体晶片生产技术领域,包括:药液槽,用于容置晶片清洗药液,药液槽内设置第一超声装置;水洗槽,内设置匀流管和第二超声装置,水洗槽设置溢流口;温度调节组件,包括散热器、加热器、温度传感器和进水管路,其中:散热器、加热器、温度传感器均设置于药液槽内;进水管路通过第一分支管路连接散热器的入口,进水管路通过第二分支管路连接匀流管;第一分支管路与第二分支管路上均设置阀门;散热器的出口通过第三分支管路连接第二分支管路;控制装置,阀门、加热器、温度传感器均与控制装置电连接。本实用新型的有益效果是结构简单、体积小且更加简便节能,生产成本低。
本实用新型一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置及清洗机在权利要求书中公布了:1.一种半导体晶片酸腐蚀后用简易清洗装置,其特征在于,包括: 药液槽,所述药液槽用于容置晶片清洗药液,所述药液槽内设置第一超声装置; 水洗槽,所述水洗槽内设置匀流管和第二超声装置,所述水洗槽设置溢流口; 温度调节组件,所述温度调节组件包括散热器、加热器、温度传感器和进水管路,其中: 所述散热器、所述加热器、所述温度传感器均设置于所述药液槽内; 所述进水管路通过第一分支管路连接所述散热器的入口,所述进水管路通过第二分支管路连接所述匀流管;所述第一分支管路与所述第二分支管路上均设置阀门;所述散热器的出口通过第三分支管路连接所述第二分支管路; 所述溢流口设置于所述水洗槽的第一侧壁,所述水洗槽上与所述第一侧壁相对的侧壁为第二侧壁,所述匀流管设置于所述第二侧壁的底部; 所述药液槽与所述水洗槽的底部均设置滤网,所述第一超声装置和所述第二超声装置均设置于所述滤网的下方,且均设置为包括至少两块集束型超声发生器; 控制装置,所述阀门、所述加热器、所述温度传感器均与所述控制装置电连接。
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